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KS-MSC-300*350 實(shí)驗(yàn)室三靶磁控濺射鍍膜儀

參考價(jià)訂貨量

350000

≥1件

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號KS-MSC-300*350
  • 品牌其他品牌
  • 所在地鄭州市
  • 更新時(shí)間2026-01-15
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 所在地區(qū)鄭州市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量12
  • 人氣值959
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鄭州科爍儀器設(shè)備有限公司是一家專業(yè)從事實(shí)驗(yàn)室設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)及實(shí)驗(yàn)室耗材銷售代理的科技型公司。公司主要產(chǎn)品有:PVD 系列:(磁控濺射鍍膜儀、等離子鍍膜儀、多弧離子鍍膜儀,熱蒸發(fā)鍍膜儀)CVD、PECVD 、ALD、超聲波熱解噴涂機(jī)、等離子清洗機(jī)、靜電紡絲機(jī)、勻膠機(jī)等;箱式爐、氣氛爐、管式爐、臺車爐、電弧爐、真空高溫?zé)Y(jié)爐等。

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產(chǎn)地國產(chǎn) 加工定制 適用領(lǐng)域科研
三靶磁控濺射鍍膜儀以三靶協(xié)同濺射技術(shù)為核心,在高真空環(huán)境中構(gòu)建精準(zhǔn)可控的等離子體沉積系統(tǒng)。其創(chuàng)新原理在于通過 100~1000Gauss 強(qiáng)力磁場約束電子運(yùn)動(dòng)軌跡,使氬氣等離子體高效轟擊三個(gè)獨(dú)立靶材,釋放的離子經(jīng)電場加速后均勻沉積于基底表面。相較于單靶設(shè)備,該技術(shù)突破性解決了涂層成分固定、調(diào)控困難的痛點(diǎn) —— 通過 PLC 系統(tǒng)精確控制各靶的濺射功率、頻率
實(shí)驗(yàn)室三靶磁控濺射鍍膜儀 產(chǎn)品詳情
1. 多維參數(shù)可控
設(shè)備采用相位可控的高功率脈沖技術(shù),不僅使靶材離化率提升 3 倍以上,更能通過調(diào)節(jié)離子能量(0V~1000V 偏壓)與入射角度,精準(zhǔn)控制薄膜晶體結(jié)構(gòu)、界面結(jié)合力與致密性。搭配 **≤1×10?2Pa 高真空本底 ** 與室溫 - 800℃可調(diào)基底加熱系統(tǒng),可制備出無針孔、晶粒均勻的高性能薄膜,膜厚均勻性誤差控制在 ±3% 以內(nèi)。
2. 三靶靈活配置,研發(fā)效率倍增
集成三個(gè)標(biāo)準(zhǔn)靶位(標(biāo)配Ф50mm Au/Ag/Pt 貴金屬靶,支持異質(zhì)靶材定制),無需破真空即可快速切換沉積模式:既能依次濺射形成多層功能膜,也能共濺射制備成分漸變的復(fù)合材料。例如在光電材料研發(fā)中,可通過調(diào)節(jié) Ti、Si、N 靶功率比,實(shí)現(xiàn) TiSiN 抗氧化薄膜的性能優(yōu)化,較傳統(tǒng)單靶方案縮短研發(fā)周期 60%。
3. 智能系統(tǒng)加持,操作安全可靠
搭載全自動(dòng) PLC 控制系統(tǒng)與循環(huán)水冷系統(tǒng),可一鍵完成預(yù)濺射(3min~30min)、沉積等流程,實(shí)時(shí)監(jiān)控真空度、氣體流量(5Sccm~100Sccm)等關(guān)鍵參數(shù)。設(shè)備采用閉合磁場設(shè)計(jì)減少電子損耗,配合脈沖電源抑制電弧放電,確保 300 小時(shí)以上穩(wěn)定運(yùn)行,極大降低薄膜缺陷率。
三、全場景覆蓋:賦能多學(xué)科創(chuàng)新研究
?? 新材料研發(fā)
可制備納米功能薄膜、催化材料與傳感器敏感層,在高熵合金涂層研究中,通過三靶共濺射實(shí)現(xiàn) 5 種以上元素的精準(zhǔn)配比,突破單靶成分調(diào)控局限。
?? 微納電子與光學(xué)
用于半導(dǎo)體器件電極制備、ITO 透明導(dǎo)電膜及光學(xué)濾光片研發(fā),憑借低缺陷沉積技術(shù),使器件擊穿電壓提升 40%,光學(xué)透過率達(dá) 95% 以上。
?? 生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域
定制抗菌涂層與生物傳感器界面,通過 Ag 靶與陶瓷靶協(xié)同沉積,實(shí)現(xiàn)薄膜生物相容性與抗菌性的優(yōu)化平衡。
?? 教學(xué)與科研
適配物理、材料等學(xué)科實(shí)驗(yàn)教學(xué),直觀展示磁控濺射原理,同時(shí)滿足前沿課題需求,如非平衡磁場調(diào)控下的多孔薄膜制備。
四、設(shè)備價(jià)值:實(shí)驗(yàn)室的創(chuàng)新基石
作為國產(chǎn)鍍膜設(shè)備代表,三靶磁控濺射鍍膜儀以 “精準(zhǔn)調(diào)控 + 高效靈活” 的核心優(yōu)勢,打破進(jìn)口設(shè)備技術(shù)壟斷。其緊湊設(shè)計(jì)適配實(shí)驗(yàn)室場景,定制化樣品臺可滿足不同基底尺寸需求,從基礎(chǔ)研究到中試開發(fā)賦能,助力科研人員加速實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破與成果轉(zhuǎn)化。


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