1. 設(shè)備簡(jiǎn)介

HW-KFV1 卡爾費(fèi)休水分儀是基于卡爾費(fèi)休容量滴定法原理設(shè)計(jì)的水分測(cè)定儀器。該設(shè)備通過(guò)碘、二氧化硫與樣品中水分的定量反應(yīng)，結(jié)合永停滴定法對(duì)反應(yīng)終點(diǎn)進(jìn)行精準(zhǔn)判斷，依據(jù)滴定劑消耗體積計(jì)算出水分含量。儀器的設(shè)計(jì)符合 JJG1154-2018《卡爾·費(fèi)休容量法水分測(cè)定儀檢定規(guī)程》的相關(guān)要求，能夠滿足實(shí)驗(yàn)室對(duì)樣品水分含量的準(zhǔn)確測(cè)定需求。

2. 應(yīng)用范圍

HW-KFV1 卡爾費(fèi)休水分儀適用于制藥、化工、食品、石油等行業(yè)的質(zhì)量控制與檢驗(yàn)環(huán)節(jié)，可用于藥品、化學(xué)試劑、食品原料、油品、有機(jī)溶劑等多種樣品中水分含量的測(cè)定。儀器既可用于常規(guī)樣品檢測(cè)，也可用于科研實(shí)驗(yàn)中的水分分析工作。

3. 功能特點(diǎn)

• 儀器搭載 Android 10 操作系統(tǒng)，配備 7 英寸高清觸摸屏，界面響應(yīng)迅速，操作流程清晰。

• 支持 Wi-Fi 無(wú)線網(wǎng)絡(luò)連接，檢測(cè)數(shù)據(jù)可通過(guò)網(wǎng)絡(luò)上傳至數(shù)據(jù)管理平臺(tái)，便于數(shù)據(jù)歸檔與統(tǒng)計(jì)分析。

• 滴定系統(tǒng)采用伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)微量泵，可實(shí)現(xiàn)1 μL 的滴定劑精準(zhǔn)推送，適用于微量水分測(cè)定。

• 極化電壓設(shè)有 30 mV、50 mV、100 mV 三檔可調(diào)，電壓控制精度高，適應(yīng)不同類型樣品的滴定需求。

• 電流測(cè)量范圍寬，滿足不同水分含量樣品的檢測(cè)要求。

• 儀器配備自動(dòng)進(jìn)液與排液系統(tǒng)，操作人員無(wú)需接觸試劑，提升了操作安全性。

• 反應(yīng)池采用全封閉設(shè)計(jì)，并配有過(guò)濾系統(tǒng)，可減少試劑揮發(fā)對(duì)環(huán)境和人員的影響。

• 滴定過(guò)程采用動(dòng)態(tài)算法控制，可在保證測(cè)定精度的同時(shí)提升分析效率。

• 支持檢測(cè)方法的自定義管理，用戶可根據(jù)不同樣品建立專用方法，或?qū)σ延蟹椒ㄟM(jìn)行修改與刪除。

• 具備獨(dú)立的空白測(cè)定和滴定度校準(zhǔn)功能，校準(zhǔn)結(jié)果可保存并自動(dòng)應(yīng)用于后續(xù)測(cè)定。

• 滴定頭采用防擴(kuò)散結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，避免滴定劑在非工作狀態(tài)下的流失，減少測(cè)量誤差。

• 內(nèi)置熱敏打印機(jī)，可實(shí)時(shí)打印檢測(cè)結(jié)果，便于現(xiàn)場(chǎng)記錄與存檔。

4. 技術(shù)參數(shù)

• 永停極化電壓可選 30 mV、50 mV、100 mV 三檔，電壓誤差不超過(guò) ±1 mV。

• 永停電流測(cè)量范圍 0 至 200 μA，電流誤差不超過(guò) ±1.0% FS。

• 水分分析重復(fù)性 ≤ 3%，水分分析誤差 ≤ 7%。

• 10 mL 滴定管容量精度為 1 μL，容量誤差為 ±10 μL/10 mL；20 mL 滴定管容量精度為 2 μL，容量誤差為 ±20 μL/10 mL。

• 數(shù)據(jù)存儲(chǔ)容量為 1 萬(wàn)至 10 萬(wàn)條，支持?jǐn)?shù)據(jù)查詢和 USB 導(dǎo)出。

• 電源適配器輸入為 12 V 3 A。

• 整機(jī)功耗為 25 W，待機(jī)功耗為 10 W。

5. 物理參數(shù)

• 主機(jī)外形尺寸為 310 mm（長(zhǎng)）× 226 mm（寬）× 233 mm（高），含突出部件時(shí)高度為 400 mm。

• 自動(dòng)進(jìn)液排液系統(tǒng)外形尺寸為 425 mm（長(zhǎng)）× 147 mm（寬）× 198 mm（高）。

• 主機(jī)凈重為 3.7 kg，自動(dòng)進(jìn)液排液系統(tǒng)凈重為 3.4 kg。

6. 工作環(huán)境參數(shù)

• 環(huán)境溫度應(yīng)控制在 5 ℃ 至 40 ℃ 范圍內(nèi)。

• 相對(duì)濕度不應(yīng)超過(guò) 80%，且無(wú)冷凝現(xiàn)象。

• 儀器應(yīng)放置在平穩(wěn)、水平的臺(tái)面上，避免振動(dòng)和陽(yáng)光直射。

• 使用場(chǎng)所應(yīng)保持清潔，避免強(qiáng)腐蝕性氣體和強(qiáng)電磁干擾。