MPR E-Scan 在線硫酸濃度儀(折光原理?抗干擾)
一、折光測量原理
二、核心抗干擾設計
分體式全屏蔽架構:光學探頭與電子控制單元分離,信號傳輸采用 0–10VDC 模擬量,隔離現(xiàn)場電磁干擾、振動與高溫,穩(wěn)定性遠超一體式儀表。
光學抗污設計:測量不受硫酸顏色、渾濁、氣泡、固體顆粒影響;藍寶石棱鏡耐磨耐腐蝕,可選自動清洗程序,長期免維護。
高防護等級:探頭材質 Alloy 20/316SS,電子箱 NEMA 4X 防護,耐受 -5–50℃ 環(huán)境、最高 150℃ 工藝溫度與 20bar 壓力。
三、性能與應用
精度:濃度測量精度 ±0.05%,分辨率 0.01%,響應 <500ms,滿足硫酸干燥、吸收、烷基化等工藝的精密控制。
信號輸出:4–20mA、Profibus、HART 等,直接接入 PLC/DCS,實現(xiàn)閉環(huán)控制。
典型場景:硫磺制酸、有色冶金、脫硫、芳綸生產(chǎn)等,替代傳統(tǒng)人工取樣,提升效率與安全性。
MPR E-Scan 以折光原理 + 分體抗干擾為核心,是硫酸及強腐蝕介質在線濃度監(jiān)測的可靠方案。





































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