KLA的 Filmetrics 系列利用光譜反射技術實現(xiàn)薄膜厚度的精確測量，其測量范圍從 nm-mm，可實現(xiàn)如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量，被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫(yī)學等領域。Filmetrics 具有 F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t 等多款產(chǎn)品，可測量從幾 mm到450mm 大小的樣品，薄膜厚度測量范圍 1nm到mm 級。Filmetrics F50 系列的產(chǎn)品能以每秒測繪兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度，配備R-θ 極坐標標準和訂制化樣品盤，樣品直徑可達450毫米。

測量原理-光譜反射

光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導體，和金屬薄膜的厚度和 折射率。 兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應 （絕大多數(shù)薄膜都是旋轉對稱）。 因為不涉及任何移動設備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過 10um 的，而橢偏儀側重薄于10nm 的膜厚。在 10nm 到 10um 厚度之間，兩種技術都可用。 而且具有快速，簡便，成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。

主要應用

測量厚度、折射率、反射率和穿透率

• 單層膜或多層膜疊加
• 單一膜層
• 液態(tài)膜或空氣層
• 膜厚2D和3D mapping繪制

技術能力

• 光譜波長范圍：190-1700 nm
• 厚度測量范圍：1nm-250 μm
• 測量 n&k 最小厚度：50 nm
• 準確度：取較大值，1nm 或 0.2%
• 精度：0.02nm
• 穩(wěn)定性：0.05nm
• 光斑大小：1.5mm
• 標準卡盤：直徑 200mm 或 300mm
• 選擇顯微鏡模塊，可升級為 F54

半導體薄膜：光刻膠、工藝薄膜、介電材料、CMP

液晶顯示：OLED、玻璃厚度、ITO

光學鍍膜：硬涂層厚度、減反涂層

高分子薄膜：PI、PC