使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡單”的臺式 高性能型號,調(diào)取數(shù)據(jù)簡單,以電子材料為中心,可對應 多種用途。
特征
● 可變更電極構(gòu)造提高等離子效果。
● 搭載高精度適配器,高性能RF 電源。
● 可根據(jù)需求規(guī)格提供定制。
用途
● 硅晶圓的灰化及蝕刻
● 基板表面污垢處理
● IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理
● 半導體相關部品的電子材料的干式清洗
● 自然氧化膜·有機物去除
● 界面活性處理
● 表面污染物去除
內(nèi)槽

規(guī)格
| 型號 | V1000 | V1000X | V1000XS |
| 等離子模式 | DP/RIE | ||
| 高頻電源 | 13.56MHz | ||
| 輸出功率 | Max1000W | Max1000 & 1500W | |
| 有效電極尺寸 | W280×D280mm | W300×D300mm | W400×D375mm |
| 電極 | 平行平板 | 2段電極(獨立) | 平板(多目的) |
| 反應氣體 | 聚合控制器2系統(tǒng)(填充氣路另行安裝) | ||
| 真空泵(標配) | 約1000L/min | 約1500L/min | 1000 & 1500L/min |
| 安全裝置 | 門檢測開關、聯(lián)鎖機構(gòu)、緊急停止開關、溫度過升防止器等 | ||
管路連接圖



































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