高純氣體分析儀AnalyElf G60EPD.

概述：

高純氣體分析儀G60EPD是一款痕量氣體分析儀，專門應(yīng)用與高純氣體及電子級工業(yè)氣體的純度分析氣相色譜儀，具有wu可比擬的檢測極限，可以測量zui低水平的雜質(zhì)

隨著經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展，氣體純度分析越來越需要更嚴(yán)格的氣體質(zhì)量控制?，F(xiàn)在對于許多氣體分析的應(yīng)用，希望雜質(zhì)遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于50 ppb。市場上的其他技術(shù)，如放電電離檢測器及其變體，比如PIHID、DID等，只能提供50 ppb范圍內(nèi)的檢測限,這已經(jīng)不能滿足市場對高純氣體純度的要求。憑借其超靈敏的增強(qiáng)型等離子體放電（Epd）檢測器、高質(zhì)量的吹掃密封閥。（PLSV）組件、信號處理和wu與倫比的分析性能，我們的G60EPD高純氣體分析系統(tǒng)是氣體質(zhì)量認(rèn)證的交鑰匙工具

測量的雜質(zhì)：

H2, O2, N2, CH4, CO, CO2, Ar, Ne，Kr，Xe、NHMC

特點(diǎn)：

1、高靈敏度Epd技術(shù)，低至 100 ppt的檢測極限。

2、一臺儀器適用于所有基質(zhì)氣體；

3、采用高可靠的PLSV防泄漏閥技術(shù)；

4、搭載帶有吹掃的高精度電子氣路APC控制器.

5、經(jīng)濟(jì)的載氣消耗解決方案。

6、可以選擇使用氬氣載氣，運(yùn)行成本低。

7、多種機(jī)型供選擇：臺式G51、G60系列，便攜PG20系列，PG6系列。

主要規(guī)格：

1、測量范圍：10 ppm～100 ppm，0～250 ppb.

2、檢測極限：He載氣＜0.1 ppb, Ar做載氣時(shí)結(jié)合SCS濃縮儀（0.5 ppb/0.1ppb可選）。

3、基質(zhì)：H2, O2, N2,  He, Air, CH4, CO, CO2，Ar、Kr、Ne、Xe

4、載體氣體：氦氣He，氬氣Ar

其他應(yīng)用：

SiH4 分析

超高純二氧化碳分析.

超高純NH3分析

超高純空氣分析。

超高純CH4分析。

HC1分析。

C4F8分析

增強(qiáng)型附件介紹：

樣品濃縮系統(tǒng)SCS.

樣品濃縮系統(tǒng) ：wu與倫比的樣品完整性。

我們的樣品濃縮系統(tǒng)（SCS）既可以作為19英寸機(jī)架式設(shè)備的用于iMOv，也可以作為獨(dú)立的臺式設(shè)備用于miniMOv，它是圍繞我們的吹掃密封閥（PLSV）捕集和釋放閥（T&R）設(shè)計(jì)的，具有du特的可配置的4步流程，確保樣品的完整性。當(dāng)與我們的電子制冷式冷阱和急速加熱器結(jié)合使用時(shí)，你將受益于（最）好的性能。

特點(diǎn)：

du特的可配置的4步流程：采樣、放空樣品基質(zhì)、捕集阱富集和捕集阱釋放

采用吹掃密封閥（PLSV）技術(shù)，具有wu可比擬的泄漏完整性。

捕集溫度低至-30℃，釋放溫度高至300℃。

彈道式釋放溫度。

分流樣品注入。

可提供惰性化流路

典型應(yīng)用：

揮發(fā)性有機(jī)物分析。

硫化物分析

濃縮永jiu氣體。

任何其他需要濃縮的應(yīng)用。

任何使用泄漏敏感的檢測器應(yīng)用，如質(zhì)譜儀

解決方案亮點(diǎn)：

可配置的4步流程.

捕集器隔離步驟改善了色譜法和峰的清晰度

樣品基質(zhì)排放步驟簡化并改善了色譜法

由于PLSV技術(shù)具有wu可比擬的泄漏完整性，在釋放階段沒有檢測器基線移動。

基質(zhì)放空功能.

嵌入式樣品基質(zhì)吹掃功能可以吹掃樣品基質(zhì)。例如，氫氣基質(zhì)可以被放空，而我們創(chuàng)新的捕集材料允許永jiu氣體濃度達(dá)到ppt的檢測極限。

無冷點(diǎn)

當(dāng)與我們的iMOv或miniMOv平臺結(jié)合時(shí)，它不需要加熱的傳輸線。這一設(shè)計(jì)特點(diǎn)是改進(jìn)色譜法的關(guān)鍵，因?yàn)樗鼫p少了冷點(diǎn)的風(fēng)險(xiǎn)。

采用PLSV閥技術(shù)

通常情況下，樣品濃縮用于痕量測量應(yīng)用。為了防止污染，樣品的完整性是關(guān)鍵。更重要的是，閥門的泄漏會導(dǎo)致基線波動和噪音。我們的樣品濃縮儀的性能歸結(jié)于我們du特的吹掃密封閥（PLSV），當(dāng)它與嵌入式4步流程相結(jié)合時(shí)，克服了所有這些問題，提供了wu與倫比的性能。

無泄漏。消除了內(nèi)側(cè)/外側(cè)和交叉口的泄漏，防止色譜柱污染和基線偏移（來自于空氣泄漏）。

改善基線噪音。

嵌入式4步流程，具有獨(dú)te的基質(zhì)放空功能。

無死體積。內(nèi)部流路不包含任何無用體積。