應(yīng)用

Neocera公司的使命是為研究新型薄膜材料和器件的科學家和工程師提供服務(wù)。我們通過以下手段來實現(xiàn)此目標：

l 發(fā)展在材料科學和器件工程方面的基礎(chǔ)競爭力

l 在薄膜制造方面，提供的脈沖電子束鍍膜（PED）和脈沖激光鍍膜（PLD）設(shè)備

l 提供的技術(shù)支持

l 參與共同的研究與開發(fā)

Neocera公司是一家PED 和PLD設(shè)備的增值供應(yīng)商。在PED 和PLD科學和技術(shù)的前沿方面，我們提供的解決方案；我們的設(shè)備和實際經(jīng)驗將幫助解決你們的問題。

另外，Neocera公司參與政府部門和工業(yè)客戶的前沿的研究與開發(fā)；作為材料科學家，我們了解你們的需要。

技術(shù)指標

一、 PED-120系統(tǒng)的技術(shù)指標

l PEBS-20脈沖電子源和電源

l 真空腔：直徑12"

Ø 額定基壓：<1x10^-6 Torr

l 基片加熱器，直徑2"，帶控溫器

Ø 氧氣可達大氣壓力

Ø 溫度：950 °C

Ø 溫度均勻性：±5 °C

Ø 溫度穩(wěn)定性：±1 °C

Ø 基片加熱器檔板

l 靶盒，手動控制

Ø 可放置6個1"的靶或3個2"的靶

Ø 靶與法蘭的距離：4"

l 氣路

Ø 質(zhì)量流量計控制進入真空腔的流量，量程100sccm

Ø 控制采用單通道設(shè)置/數(shù)值顯示

l 真空泵系統(tǒng)

Ø 260 l/s 帶冷阱的渦輪分子泵，高真空泵

Ø 4 m³/hr無油機械泵

Ø 8"閘板閥，手動控制

Ø 排氣/出氣閥，用于氧氣的安全操作

l 真空計，顯示讀數(shù)

Ø 冷陰極型

Ø 對流型

l 系統(tǒng)框架

Ø 占地面積：22”W x 34”D

Ø 空間： 30”W x 34”D

Ø 總高度： 54"-58"

Ø 標準19"電子元件安裝架

Ø 腳輪和水平調(diào)節(jié)器

l 電源

Ø 110-240 VAC/50 Hz, 20 A，單相

二、PEBS-20脈沖電子源系統(tǒng)的技術(shù)指標

組成：

l PEBS-20脈沖電子源

l 電源

l 電子控制系統(tǒng)

l 預(yù)裝軟件的控制計算機

技術(shù)指標：

電壓：115-230 VAC, 50/60 Hz, 單相

氧氣壓力：5-20 mTorr

電子能量：8-20 kV

單次脈沖能量：0.1 – 0.8 J

脈沖能量偏差（Max）：±10%

能量轉(zhuǎn)換效率：25-30%

脈沖持續(xù)時間：~100 ns

脈沖重復(fù)速率（Max）：15 Hz

電子束斑面積（Min）：6 x 10^-2 cm²

電子束斑面積偏差（Max）：±20%

脈沖能量密度（Max）：1.3 x 10⁸ W/ cm²

Z軸移動距離：50 mm

XY軸移動距離：±20 mm

工作壽命：10⁷ 次脈沖

PEBS源的工作溫度（Max）：85 °C

特點

脈沖電子束沉積（PED）的特點

與CW技術(shù)相比，例如傳統(tǒng)的電子束蒸發(fā)，脈沖系統(tǒng)的主要特點是可以在靶材表面上

產(chǎn)生達10⁸W/cm²的高能量密度。因此，靶材的熱動力學特性比如熔點和比熱等

在蒸發(fā)過程中就變得不重要了。這一點對復(fù)雜的、多組分材料特別具有優(yōu)勢。與脈

沖激光沉積（PLD）相比，脈沖電子束沉積（PED）技術(shù)提供了無二的平臺，在

一系列具有重要技術(shù)價值的基片上沉積復(fù)雜材料的薄膜，其獨特的優(yōu)點在于擴展了

材料的范圍和應(yīng)用。這種方法在大批量生產(chǎn)中可以大規(guī)模應(yīng)用且成本低廉。