FEI Prisma E SEM 掃描電子顯微鏡

結(jié)合了成像性能和獨(dú)特的環(huán)境模式（Thermo Scientific ESEM™），同時(shí)兼容廣泛的硬件和軟件選型，可滿(mǎn)足多用戶(hù)實(shí)驗(yàn)室的綜合應(yīng)用需求。

Prisma E SEM 的三種真空模式（高真空、低真空和環(huán)境掃描模式【ESEM】）使得系統(tǒng)具有靈活性，可以容納任何 SEM 可用的廣泛的樣品類(lèi)型，包括放氣的、未鍍導(dǎo)電膜的或者是與真空狀態(tài)不相容的樣品。

多種檢測(cè)器選項(xiàng)（定向背散射探測(cè)器、STEM、熒光探測(cè)器等）提供了所有必要的樣品信息。探測(cè)器信號(hào)同步采集和顯示，可以在較短的時(shí)間內(nèi)提供答案。

主要優(yōu)勢(shì)

1、在自然狀態(tài)下對(duì)材料進(jìn)行原位研究： Prisma E SEM提供獨(dú)特的環(huán)境掃描模式（ESEM）。

2、較大程度縮短樣品制備時(shí)間：低真空和環(huán)境真空技術(shù)可針對(duì)不導(dǎo)電和/或含水樣品直接成像和分析，樣品表面無(wú)荷電累積。

3、觀察所有樣品獲取信息：在每種操作模式下均可同時(shí)進(jìn)行SE和BSE成像。

4、原位分析：配置專(zhuān)門(mén)的原位實(shí)驗(yàn)臺(tái)，溫度范圍從-165℃到1400℃。

5、的分析功能：大樣品倉(cāng)可同時(shí)安裝3個(gè)EDS探測(cè)器、WDS和共面EDS/EBSD，其中兩個(gè)EDS端口為180°正對(duì)。

6、的不導(dǎo)電樣品分析功能：借助多級(jí)“穿過(guò)透鏡”的壓差真空系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)低真空下的高質(zhì)量EDS 和 EBSD 分析。

7、高精度優(yōu)中.心樣品臺(tái)，105°傾斜角度范圍，可觀察樣品。

8、軟件直觀、簡(jiǎn)便易用，配置用戶(hù)向?qū)Ъ?Undo（撤銷(xiāo)）功能，新手用戶(hù)可進(jìn)行操作，專(zhuān)家用戶(hù)也可進(jìn)行更少的操作，完成快速分析。

9、廣泛的配置選項(xiàng)，包括可伸縮的RGB熒光（CL）探測(cè)器、1100℃高真空熱臺(tái)、_Heater 和Autoscript（基于Python的腳本工具API）。

材料科學(xué)SEM

對(duì)于需要方位性能和易用性的多用戶(hù)實(shí)驗(yàn)室而言，完整的SEM。

新型Prisma E掃描電子顯微鏡（SEM）將各種成像和分析模式與新的自動(dòng)化相結(jié)合，為同類(lèi)儀器提供完整的解決方案。它非常適用于需要高分辨率，樣品靈活性和易于使用的操作界面的工業(yè)研發(fā)，質(zhì)量控制和故障分析應(yīng)用。Prisma E成功獲得了為成功的Quanta SEM。

特色的成像

多用戶(hù)實(shí)驗(yàn)室需要顯微鏡在短時(shí)間內(nèi)生成具有相關(guān)數(shù)據(jù)的高質(zhì)量圖像。Prisma E采用基于管組件的成像系統(tǒng)滿(mǎn)足了這一需求，可在各種光束能量和真空條件下提供好的結(jié)果。在所有這些條件下，地形圖和成像圖都提供必要的樣本信息。通過(guò)同步采集，該信息可供隨后進(jìn)一步解釋和分析。

輕松導(dǎo)航

尋找感興趣的區(qū)域甚至找到樣品本身都是一項(xiàng)繁瑣的工作……但不是在Prisma E上。室內(nèi)導(dǎo)航相機(jī)（Nav-Cam）提供樣品架的詳細(xì)照片，使其易于使用一個(gè)會(huì)話(huà)中的多個(gè)樣本并逐個(gè)導(dǎo)航到它們。在示例中，只需單擊它即可轉(zhuǎn)到感興趣的區(qū)域。導(dǎo)航凸輪圖像與樣本一起旋轉(zhuǎn)，因此導(dǎo)航非常直觀。

樣本靈活性

今天的研究超越了傳統(tǒng)金屬和涂層樣品 – 非導(dǎo)電材料，大型或重型樣品，臟樣品甚至濕樣品都需要在微觀尺度上進(jìn)行研究。Prisma E具有三種成像模式 – 高真空，低真空和ESEM™ – 適用于任何SEM的廣泛樣品。此外，Prisma E的腔室適合大樣品，并配備110×110 mm 5軸電動(dòng)中.心平臺(tái)，傾斜范圍為105°，可以從各個(gè)角度觀察樣品。

支持分析

Prisma E的分析室支持對(duì)元素（EDX，WDS）和晶體學(xué)（EBSD）樣品數(shù)據(jù)的日益增長(zhǎng)的需求，該分析室支持多個(gè)EDX檢測(cè)器以提高通量并清除陰影效應(yīng)。此外，分析室支持共面EDX / EBSD和平行光束WDS，以確保所有技術(shù)的定位。得益于Prisma E的原位功能，即使在絕緣或高溫樣品上也能獲得可靠的分析結(jié)果。
光子學(xué)，地球科學(xué)，陶瓷，玻璃和故障分析應(yīng)用的附加樣品信息來(lái)自獨(dú)特的可伸縮RGB發(fā)光檢測(cè)器。

典型應(yīng)用包括：

1、納米表征:

– 金屬及合金、斷口、焊點(diǎn)、拋光斷面、磁性及超導(dǎo)材料

– 陶瓷、復(fù)合材料、塑料

– 薄膜/涂層

– 地質(zhì)樣品斷面、礦物

– 軟材料：聚合物、藥物、濾膜、凝膠、生物組織、植物材料

– 顆粒、多孔材料、纖維

2、原位表征:

– 結(jié)晶/相變

– 氧化反應(yīng)、還原反應(yīng)、催化反應(yīng)

– 材料生長(zhǎng)

– 水合/脫水/潤(rùn)濕/接觸角分析

– 拉伸 (伴隨加熱或冷卻)

技術(shù)參數(shù)：

1、電子光學(xué)：

1）發(fā)射源：鎢燈絲（高性能電子光學(xué)鏡筒，雙陽(yáng)熱發(fā)射電子槍?zhuān)?/p>

2）固定式物鏡光闌，無(wú)需手動(dòng)調(diào)整使用方便

3）加速電壓：200V – 30kV，自動(dòng)256級(jí)偏壓設(shè)計(jì)

4）放大倍數(shù)：6x – 1,000,000×

5）有一路單獨(dú)抽真空系統(tǒng)，保證在低真空和環(huán)境模式下電子槍高真空和不受污染，延長(zhǎng)燈絲壽命

6）使用工廠預(yù)對(duì)中燈絲更換方便

2、真空系統(tǒng)

1）1個(gè)250 l/s分子渦輪泵+1個(gè)機(jī)械泵

2）高真空模式：＜1×10-5 Pa

3）低真空模式：10 – 130 Pa

4）環(huán)境真空模式：10 – 2600 Pa

5）高真空模式下的換樣時(shí)間：≤150秒

6）低真空及環(huán)境真空模式下的換樣時(shí)間：≤270秒

3、電子束分辨率

A：高真空模式下成像

1）30 kV下3.0 nm （SE二次電子）

2）30 kV下4.0 nm （BSE背散射電子）

3）3 kV下8.0 nm （SE二次電子）

B：電子束減速下高真空模式下成像

1）7.0 nm @ 3 kV （電子束減速模式 + DBS）

C： 低真空模式下成像

1）3.0 nm @ 30 kV （SE二次電子）

2） 4.0 nm @ 30 kV （BSE背散射電子）

3）10 nm @ 3 kV (SE)

D：環(huán)境模式下成像

1）30 kV下3.0 nm （SE二次電子）

4、樣品倉(cāng)

1）內(nèi)寬：340 mm

2）分析工作距離：10 mm

3）端口：12

4）EDS 出射角：35°

5）可同時(shí)安裝三個(gè) EDS 探測(cè)器，其中兩個(gè)處于 180°正對(duì)

6）共面 EDS/EBSD ，與樣品臺(tái)傾斜軸垂直

7）通用 9 針電氣接口