PALL XpressKleen™ G2 filters過濾器

產(chǎn)品介紹

XpressKleen G2過濾器改進了PTFE膜過濾，使半導體制造商能夠滿足前沿器件制造工藝的關(guān)鍵化學過濾要求。

XpressKleen過濾器在保持臨界流體純度的同時，可控制臨界尺寸的顆粒。每個單長度過濾器保證總金屬離子可提取量小于3ppb。

XpressKleen過濾器的表面清潔度包括去除有機污染和表面顆粒。過濾器適用于

使用從供應(yīng)點(POS)到工藝點(POP)，以幫助定義一個污染控制系統(tǒng)，提供所需的流體純度硅片。

頗爾采用制造工藝(AMP)。它結(jié)合＊的潔凈室制造專有的清潔方法。改進的統(tǒng)計過程控制(SPC)保證了可靠性和性能。

不脫濕的XpressKleen G2過濾器適用于腐蝕性高溫清洗化學品，以及溶劑和含水化學品，如SC1和SC2。

?超低萃取物

?> 40納米顆粒沖洗控制在UPW1

?TOC、有機物、NVR控制

?標準99%預濕膠囊與超純水

?高流速

?T型流量G2 KC總成可配置下游排氣口

?一次性過濾器單元，過濾筒整體密封在外殼中

?密封組件，更安全的處理和更快的更換

?99%完整性測試

1 > 20納米顆粒漂洗控制在UPW為5納米和2納米級

特點

構(gòu)成材質(zhì)2

^*2全氟聚合物材料，不使用PFOA。
³ 其它選項請咨詢工廠。

過濾精度和操作條件

Kleen-Change® (KC)

Cartridge

Total metal concentrations in 13 elements for 30 nm, 15 nm, 12 nm and 10 nm: Li, Na, Mg, Al, K, Ca, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn, Pb.

5 Total metal concentrations in 19 elements for 5 nm: Al, Ba, B, K, Na, Fe, Li, Mg, Mn, Pb, Sn, Ti, Zn, Ni, Cu, Cr, Co, Ca, Ag.

6 Total metal concentrations in 30 elements for 2 nm: Al, Ba, B, K, Na, Fe, Li, Mg, Mn, Pb, Sn, Ti, Zn, Ni, Cu, Cr, Co, Ca, Ag, Mo, Pd, Pt, Ru, As, Au, Cd, Sb, Sr, V, W

XpressKleen G2 KC Assemblies

LDF 1 2 1XP 3 4 E 5

表格1 表格2 表格3

表格4

表格5⁷

XpressKleen G2 Filter

FG 1 XP 2 3E 3

表格1 表格2 表格3

11 Kalrez is a trademark of DuPont Performance Elastomers

12 Perfrez is a trademark of Applied Seals North Americas