產(chǎn)品名稱:射頻CCP薄膜沉積
產(chǎn)品型號: HG07-DP系列
產(chǎn)品編號: 28308
射頻CCP薄膜沉積 的詳細(xì)介紹
適合大學(xué)物理、材料、化學(xué)等領(lǐng)域的學(xué)生實(shí)驗(yàn)及教師科學(xué)研究。
設(shè)備規(guī)格配置:
| 1 | 2 | 3 | ||
沉積室 | 玻璃真空室 | 不銹鋼真空室 | |||
射頻功率源 | 13.56MHz,功率:500W |
| |||
射頻耦合方式 | Φ60mm單圈環(huán)形電感 | ||||
真空系統(tǒng) | 機(jī)械泵 | 機(jī)械泵+擴(kuò)散泵 | 機(jī)械泵+分子泵 | ||
極限真空 | 6.7×10-1Pa | 5×10 -4Pa | 8×10-5Pa | ||
恢復(fù)真空 | 2Pa | 5×10-3Pa | 8×10-4Pa | ||
進(jìn)氣系統(tǒng) | 三路轉(zhuǎn)子流量計或三路質(zhì)量流量計 | ||||
襯底溫度 | 室溫至300℃可調(diào)可控; | ||||
真空測量 | 數(shù)顯電阻真空計 | 數(shù)顯復(fù)合真空計 | 數(shù)顯復(fù)合真空計 | ||


























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