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15313084898 薄膜應(yīng)力測(cè)試儀

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  • 型號(hào)15313084898
  • 品牌
  • 所在地北京市
  • 更新時(shí)間2017-05-17
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)北京市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量30
  • 人氣值2335
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北京飛凱曼科技有限公司為多家國內(nèi)外高科技儀器廠家在中國地區(qū)*代理。飛凱曼科技公司一貫秉承『誠信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國用戶提供*的儀器、設(shè)備,Z周到的技術(shù)、服務(wù)和*的整體解決方案。在科技日新月異、國力飛速發(fā)展的中國,光電技術(shù)、材料科學(xué)、半導(dǎo)體薄膜薄膜生長和加工技術(shù)、表面材料物性分析、生物藥物開發(fā)、有機(jī)高分子合成等等領(lǐng)域,都需要與歐美發(fā)達(dá)國家*接軌的儀器設(shè)備平臺(tái)來實(shí)現(xiàn)。飛凱曼科技公司有幸成長在這個(gè)科技創(chuàng)造未來的年代,我們?cè)敢饣癁橐蛔鶚蛄?,見證中國科技水平的提升,與中國科技共同飛速成長。

主要產(chǎn)品:
1.
晶圓探針臺(tái)、平板式樣品探針臺(tái)、Mini腔探針臺(tái)、四探針臺(tái)、環(huán)境可控型四探針臺(tái)、高低溫(變溫)探針臺(tái)、霍爾效應(yīng)測(cè)試儀、變溫霍爾效應(yīng)測(cè)試儀、塞貝克效應(yīng)測(cè)試儀
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3. 日本AET公司微波介電常數(shù)測(cè)試儀
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5. 高純鍍膜材料:五氧化三鈦、鈦酸鑭、二氧化硅、鑭鋁混合物、氧化鋁、硅鋁混合物、氧化鉭、氧化鈮

6.半導(dǎo)體激光器、波長穩(wěn)定的半導(dǎo)體激光器、單頻半導(dǎo)體激光器、光纖耦合半導(dǎo)體激光器、光纖激光器、波長可調(diào)諧單頻激光器、激光諧振腔設(shè)計(jì)軟件

7 體全息光柵(VHG)、脈沖展寬器、脈沖壓縮器、脈沖抑制器、陷波濾波器、ASE抑制濾波器、合束器、多線濾波器、相位掩模版、VHG-FAC、激光穩(wěn)頻元件、氟化鈣(CaF2)晶體、Er:YAG晶體、Nd:YAG晶體、Yb:YAG晶體、Ho:YAG晶體、Tm:YAG晶體、鈮酸鋰晶體(LiNbO3)、摻鉺玻璃、磁旋光玻璃

8.真空設(shè)備配件:磁控陰極(含圓形和矩形)、氣體質(zhì)量流量器(MFC)、朗謬爾探針、氣體閉環(huán)控制器等

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10.日本APCO公司精密自動(dòng)劃片機(jī)、貼膜機(jī)、清洗機(jī)、撕膜機(jī)

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薄膜應(yīng)力測(cè)試儀,又名薄膜殘余應(yīng)力測(cè)試儀或薄膜應(yīng)力儀,是專門用于測(cè)試和研究薄膜材料和薄膜制備工藝的*的工具。
薄膜應(yīng)力測(cè)試儀 產(chǎn)品詳情

薄膜中應(yīng)力的大小和分布對(duì)薄膜的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)有重要的影響, 可導(dǎo)致薄膜的光、電、磁、機(jī)械性能改變. 例如, 薄膜中的應(yīng)力是導(dǎo)致膜開裂或與基體剝離的主要因素, 薄膜中存在的殘余應(yīng)力很多情況下影響MEMS 器件結(jié)構(gòu)的特性, 甚至嚴(yán)重劣化器件的性能, 薄膜的內(nèi)應(yīng)力對(duì)薄膜電子器件和薄膜傳感器的性能有很大的影響.因此, 薄膜應(yīng)力研究在薄膜基礎(chǔ)理論和應(yīng)用研究中起到重要的作用, 薄膜應(yīng)力的測(cè)量備受關(guān)注。再例如在硬質(zhì)薄膜領(lǐng)域,金屬氮化物、氧化物、碳化物等硬質(zhì)薄膜因具有*的耐磨、耐腐蝕等特性,被廣泛應(yīng)用于金屬材料的防護(hù).硬質(zhì)薄膜的主要制備方法包括物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積技術(shù).研究發(fā)現(xiàn),沉積態(tài)硬質(zhì)薄膜中存在較大的殘余應(yīng)力,而且沿層深分布不均勻;該殘余應(yīng)力對(duì)硬質(zhì)薄膜一基體系統(tǒng)的性能影響很大-lJ_精確地測(cè)量硬質(zhì)薄膜的殘余應(yīng)力,系統(tǒng)研究它與沉積工藝的關(guān)系,對(duì)優(yōu)化硬質(zhì)薄膜基體系統(tǒng)的性能具有重要的意義.


本公司提供的薄膜應(yīng)力測(cè)試儀采用優(yōu)化的光杠桿的原理,根據(jù)我們科研工作者*的扎實(shí)的理論研究和實(shí)際工藝探索,研制的一套適用于各種薄膜應(yīng)力測(cè)試的裝置。近年來,經(jīng)過國內(nèi)院校和科研單位的實(shí)際使用和驗(yàn)證,該儀器具有良好的重復(fù)性和準(zhǔn)確性,是一款廣泛應(yīng)用于各領(lǐng)域薄膜制備和材料研究的高性價(jià)比的儀器。

產(chǎn)品功能和特點(diǎn):

自動(dòng)采集分析數(shù)據(jù)功能;

自動(dòng)掃查樣品邊緣,定位樣品中心;

自動(dòng)計(jì)算出曲率半徑值和薄膜應(yīng)力值;

對(duì)原始表面不平直的基片表面的薄膜,可采取原位測(cè)量的方式,計(jì)算薄膜應(yīng)力值。

技術(shù)參數(shù):

1.原理:曲率法Stoney公式

2.薄膜應(yīng)力測(cè)量范圍:1×10-2GPa到1×102GPa;

3.曲率半徑測(cè)試范圍:0.3-60m

4.曲率半徑測(cè)試誤差:﹤±1%

5.薄膜應(yīng)力計(jì)算誤差:﹤±2.5%

6.測(cè)試平臺(tái)行程:100mm

7.控制:獨(dú)立PC及控制軟件

8.儀器尺寸:1500x1500x430mm

詳細(xì)信息請(qǐng)咨詢我們。 info#pcm-bj.com  Q1606737747

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