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公司介紹

NOVTEC寓意“科技創(chuàng)新”，集團(tuán)總部位于中國(guó)蘇州，在德國(guó)、日本設(shè)有代表處，多年來(lái)致力于將的高科技產(chǎn)品帶給中國(guó)及亞洲的廣大用戶，并為客戶提供*的售后服務(wù)，協(xié)助他們提高生產(chǎn)技術(shù)水平、競(jìng)爭(zhēng)力及增加盈利，專(zhuān)業(yè)從事工業(yè)測(cè)量與測(cè)試產(chǎn)品的銷(xiāo)售與研發(fā)，擁有產(chǎn)品研發(fā)中心、研究院和生產(chǎn)工廠，技術(shù)力量雄厚。

我們的合作伙伴大都是工業(yè)測(cè)量與測(cè)試領(lǐng)域的*，彼此關(guān)系深厚穩(wěn)固，有些合作超過(guò)十幾年的時(shí)間。NOVTEC不斷在員工培訓(xùn)方面，投入大量資源，藉此提高他們專(zhuān)業(yè)水平，邀請(qǐng)國(guó)外專(zhuān)家進(jìn)行定期的技術(shù)培訓(xùn)和指導(dǎo)，由經(jīng)驗(yàn)豐富的專(zhuān)業(yè)工程師團(tuán)隊(duì)提供全面的技術(shù)支持。同時(shí)延攬經(jīng)驗(yàn)豐富、資質(zhì)優(yōu)良、充滿活力的人才，與客戶的需求緊密結(jié)合，為其提供*而可靠的加值型服務(wù)。

我們的核心價(jià)值觀：做正確的事，做正直的人。

我們的客戶遍布于汽車(chē)、新能源、動(dòng)力電池、半導(dǎo)體、LED、觸摸屏、*、航天航空、大學(xué)、科研院所、電子、新材料、船舶、第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)等行業(yè)。

本著“為客戶創(chuàng)造價(jià)值”的經(jīng)營(yíng)理念，我們給您提供的是世界*的產(chǎn)品,豐富的經(jīng)驗(yàn),*的技術(shù),完整經(jīng)濟(jì)的系統(tǒng)解決方案和*的服務(wù)。

因?yàn)閷?zhuān)業(yè)，所以我們值得信賴

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

儀器廣泛應(yīng)用于微電子、光電、納米技術(shù)、LED、平板顯示、材料、有機(jī)電子、光伏、玻璃鍍膜、生物學(xué)、生命科學(xué)、等研發(fā)領(lǐng)域。

德國(guó)SENTECH公司 ICP等離子/ RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī) 產(chǎn)品詳情

德國(guó)SENTECH公司 ICP等離子/ RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)---上海/蘇州/無(wú)錫/南京/天津/北京/武漢/西安/杭州/濟(jì)南/廣州

SENTECH儀器（德國(guó)）有限公司研發(fā)、制造和銷(xiāo)售*的薄膜測(cè)量?jī)x器（光譜橢偏儀、激光橢偏儀、反射膜厚儀）、光伏測(cè)量?jī)x器（在線和離線測(cè)量工具）和等離子工藝設(shè)備（等離子刻蝕機(jī)、等離子沉積系統(tǒng)、原子層沉積系統(tǒng)、用戶定制多腔系統(tǒng)）。
儀器廣泛應(yīng)用于微電子、光電、納米技術(shù)、LED、平板顯示、材料、有機(jī)電子、光伏、玻璃鍍膜、生物學(xué)、生命科學(xué)、等研發(fā)領(lǐng)域。

NOVTEC寓意“科技創(chuàng)新”，即諾威特測(cè)控科技有限公司，在德國(guó)、日本設(shè)有代表處，多年來(lái)致力于將的高科技產(chǎn)品帶給中國(guó)及亞洲的廣大用戶，并為客戶提供*的售后服務(wù)，協(xié)助他們提高生產(chǎn)技術(shù)水平、競(jìng)爭(zhēng)力及增加盈利，專(zhuān)業(yè)從事工業(yè)測(cè)量與測(cè)試產(chǎn)品的銷(xiāo)售與研發(fā)，擁有產(chǎn)品研發(fā)中心、研究院和生產(chǎn)工廠，技術(shù)力量雄厚。

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

SI 500為研發(fā)和小批量生產(chǎn)應(yīng)用提供*的ICP刻蝕工藝，具備高度的靈活性和模塊化設(shè)計(jì)特點(diǎn),可實(shí)現(xiàn)范圍廣泛的刻蝕工藝。包括刻蝕III-V化合物、II-VI化合物、介質(zhì)、石英、玻璃、硅和硅化合物等。

SI 500C低溫ICP刻蝕機(jī)，可在-100℃左右的低溫下實(shí)現(xiàn)深硅刻蝕。優(yōu)點(diǎn)是刻蝕后形成非常光滑的側(cè)壁，尤其在光學(xué)應(yīng)用上非常重要。同時(shí)低溫刻蝕工藝的高刻蝕速率可實(shí)現(xiàn)刻穿樣片。

SI 591 采用模塊化設(shè)計(jì)、具有高度靈活性，適用于III-V 化合物、聚合物、金屬盒硅刻蝕工藝，可配置為單反反應(yīng)腔系統(tǒng)、或帶預(yù)真空室或片盒站的多腔系統(tǒng)。特別適用于采用氟基氣體的工藝，具有很高的工藝穩(wěn)定性和重復(fù)性。

型號(hào)

SI 500	ICP刻蝕機(jī)	-30~+200℃
SI 500C	低溫ICP刻蝕機(jī)	-150~+400℃
SI 500-30	ICP刻蝕機(jī)	帶預(yù)真空室	zui大12寸晶圓
SI 591	反應(yīng)離子刻蝕機(jī)	帶預(yù)真空室
Etchlab200	反應(yīng)離子刻蝕機(jī)	不帶預(yù)真空室
SI500-RIE	反應(yīng)離子刻蝕機(jī)	帶預(yù)真空室	帶氦氣背冷卻系統(tǒng)

具體型號(hào)及技術(shù)要求咨詢。

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諾威特測(cè)控科技有限公司

Add：中國(guó)蘇州市*開(kāi)發(fā)區(qū)金楓南路198號(hào)

：夏雨

http://

關(guān)鍵詞：測(cè)量?jī)x 橢偏儀原子層沉積系統(tǒng)

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產(chǎn)品名稱	參考價(jià)	地區(qū)	公司名稱	更新時(shí)間
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