離子濺射蒸碳儀/磁控靶庫號(hào)：M413872

離子濺射蒸碳儀（磁控靶） 型號(hào):WZX/SD-900C庫號(hào)：M413872   查看hh

一、雙功能技術(shù)原理

噴金噴碳儀集成直流濺射與碳纖維繩熱蒸發(fā)蒸碳雙功能，屬于物理|氣相沉積（PVD）復(fù)合技術(shù)范疇，是通用單一功能設(shè)備無法替代的方案。噴金功能采用直流濺射原理，在≤4×10?2mbar低真空環(huán)境下，氬氣被電離產(chǎn)生等離子體，正離子高速轟擊鉑靶表面，使鉑原子均勻沉積形成致密導(dǎo)電薄膜；噴碳功能采用定制化碳纖維繩熱蒸發(fā)技術(shù)，通過28V高壓、100A大電流瞬時(shí)加熱碳纖維繩，使其快速蒸發(fā)并沉積為CHAO薄碳膜，膜層厚度可通過0-1s精ZHUN定SHI控制。雙功能共享一套真空系統(tǒng)與控制系統(tǒng)，無需換設(shè)備即可完成兩種預(yù)處理工藝，大幅提升樣品處理效率與兼容性。

二、應(yīng)用場(chǎng)景

科研檢測(cè)領(lǐng)域

適配掃描電鏡（SEM）、透射電鏡（TEM）樣品預(yù)處理，噴金適用于陶瓷、塑料等常規(guī)絕緣樣品，噴碳針對(duì)生物組織、CHAO薄材料、冷凍樣品等熱敏/對(duì)膜厚敏感的樣品，可避免電子積累與樣品SUN傷，保障高倍鏡下成像，是考古文物、生物樣本微觀分析的設(shè)備。

材料領(lǐng)域

用于高分子材料、納米材料、碳纖維復(fù)合材料的表面改性，噴碳可制備高附著力碳膜，提升材料導(dǎo)電性與光熱轉(zhuǎn)化效率；噴金可制備貴金屬電極，適配傳感器、光電器件等需求，兼顧多材料、多場(chǎng)景實(shí)驗(yàn)需求。

生物YI LIAO領(lǐng)域

針對(duì)含水生物樣品、YI用耗材進(jìn)行預(yù)處理，噴碳膜層薄且生物相容性佳，可避免影響樣品活性；噴金用于XUE糖儀試紙、生物傳感器等耗材的電極制備，保障檢測(cè)信號(hào)穩(wěn)定傳輸，適配與。

高校教學(xué)領(lǐng)域

適配材料、電子、生物教學(xué)與科研，可直觀展示濺射與熱蒸發(fā)兩種PVD技術(shù)原理，設(shè)備操作簡(jiǎn)單、體積小巧，能快速完成小批量樣品實(shí)驗(yàn)，兼顧教學(xué)演示與科研創(chuàng)新需求，是復(fù)合型教學(xué)設(shè)備。

三、技術(shù)參數(shù)

參數(shù)類別 詳細(xì)規(guī)格

整機(jī)結(jié)構(gòu) 1、采用主機(jī)+副機(jī)分體式設(shè)計(jì)，

主機(jī)尺寸300mm×360mm×380mm、

副機(jī)300mm×360mm×140mm（W×D×H），

2、總重40Kg，副機(jī)承載熱蒸發(fā)模塊，主機(jī)集成濺射與真空系統(tǒng)，布局優(yōu)化且占用空間0.22㎡，較同類復(fù)合設(shè)備體積縮減40%，適配實(shí)驗(yàn)室緊湊空間，一體化復(fù)合結(jié)構(gòu)無通用替代方案。

樣品室與雙功能系統(tǒng) 1、樣品室尺寸160mm×120mm（D×H），采用高透光硼硅酸鹽玻璃，可實(shí)時(shí)觀察雙功能鍍膜過程，玻璃經(jīng)防濺射涂層處理，避免靶材/碳粉附著影響視野。

2、濺射面積Φ50mm（匹配小型樣品），蒸碳面積140mm（適配大面積樣品），雙功能工位較單一功能設(shè)備兼容性提升一倍。

靶材與蒸發(fā)材料 1、標(biāo)配Φ50mm×0.1mm高純度鉑（Pt）靶材（純度99.99%），與濺射靶一體化設(shè)計(jì)，濺射均勻性偏差≤±3%；蒸發(fā)材料采用碳纖維繩，耐高溫、蒸發(fā)速率穩(wěn)定，相較于石墨蒸發(fā)源，碳膜純度、附著力，且與熱蒸發(fā)模塊適配，通用材料無法達(dá)到同等蒸碳效果。

濺射與蒸碳控制參數(shù) 1、濺射參數(shù)：電壓-1600DCV，

電流50mA，

電流穩(wěn)定度±0.1mA，

標(biāo)準(zhǔn)濺射速率40nm/分鐘，

0-999s定SHI器秒JI調(diào)控；

2、蒸碳參數(shù)：電壓28V，

電流100A，

0-1s SHUN時(shí)加熱控制，

可精ZHUN制備10-50nm CHAO薄碳膜。

3、雙功能參數(shù)獨(dú)立存儲(chǔ)、聯(lián)動(dòng)控制，控制系統(tǒng)可避免參數(shù)干擾，通用設(shè)備無法實(shí)現(xiàn)雙功能協(xié)同。

真空與氣路系統(tǒng) 4、皮拉尼真空計(jì)，測(cè)量范圍1×10?3-1×103mbar，針對(duì)雙功能場(chǎng)景校準(zhǔn)，顯示精度±0.01mbar，可穩(wěn)定維持≤4×10?2mbar工作真空度；微型真空氣閥可連接φ3mm軟管，可連通惰性氣體提高成膜質(zhì)量，密封性經(jīng)測(cè)試（漏率≤1×10??mbar·L/s），保障雙功能真空環(huán)境穩(wěn)定性。

動(dòng)力與冷卻系統(tǒng) 1、標(biāo)配2L/S機(jī)械泵，與雙功能系統(tǒng)適配性JIA，運(yùn)行噪音≤55dB，從大氣抽至工作真空度需3-5分鐘；

2、冷卻系統(tǒng)標(biāo)配風(fēng)冷，效率較通用風(fēng)冷提升25%。注：若單次濺射CHAO 3分鐘或制備厚膜，建議加裝原廠電冷裝置，控溫保護(hù)樣品與設(shè)備。

靶體配置 1、標(biāo)配二極直流濺射靶，滿足常規(guī)噴金需求；

2、選配磁控靶（適配后濺射電流可達(dá)100mA），磁控靶采用磁路設(shè)計(jì)，濺射速率較二極靶提升30%。中西集團(tuán)

中西集團(tuán)

離子濺射蒸碳儀/磁控靶庫號(hào)：M413872