雙單元電化學(xué)工作站（雙恒電位儀）CS2350
CS2350雙單元電化學(xué)工作站是基于常規(guī)單通道系列CS350型發(fā)展而來(lái)，內(nèi)置兩套獨(dú)立的恒電位/恒電流儀，每套恒電位儀各有一套輔助、工作和參比電極輸出，并由Corrtest軟件來(lái)協(xié)調(diào)輸出電位/電流。
雙單元電化學(xué)工作站(雙恒電位儀）CS2350
CS2350雙單元電化學(xué)工作站是基于常規(guī)單通道系列CS350型發(fā)展而來(lái)，內(nèi)置兩套獨(dú)立的恒電位/恒電流儀，每套恒電位儀各有一套輔助、工作和參比電極輸出，并由Corrtest軟件來(lái)協(xié)調(diào)輸出電位/電流。
CS2350工作時(shí)分主單元和從單元兩路，從單元采用浮地模式實(shí)現(xiàn)對(duì)第二工作電極WEII的電位/電流控制。第二工作電極電位可以保持在獨(dú)立的恒定電位或電流值，也可實(shí)現(xiàn)獨(dú)立于*工作電極的線性掃描或循環(huán)伏案掃描等測(cè)試。
因此，CS2350除了具備單通道工作站的所有特點(diǎn)，還可用于電化學(xué)反應(yīng)中間產(chǎn)物的檢測(cè)。
典型應(yīng)用
①配合旋轉(zhuǎn)環(huán)盤電極用于研究電化學(xué)氧化還原體系，在測(cè)量圓盤電極極化曲線的同時(shí)，控制圓環(huán)電極于一個(gè)固定的極化電勢(shì)，用以檢測(cè)圓盤電極上產(chǎn)生的反應(yīng)中間物，該方法也成為檢測(cè)反應(yīng)中間物和研究電極反應(yīng)機(jī)理的典型流體動(dòng)力學(xué)方法。
②金屬中氫擴(kuò)散測(cè)試，兩個(gè)恒電位裝置配合Devnathan-Stachurski雙電解池，通過(guò)左側(cè)電解池的陰極充氫和右側(cè)電解的氫原子陽(yáng)極氧化電流測(cè)量，進(jìn)而計(jì)算氫原子在金屬中擴(kuò)散系數(shù)和氫通量。
硬件參數(shù)指標(biāo)
雙恒電位儀：?jiǎn)魏汶娢浑娢豢刂品秶?plusmn;10V 雙恒電位儀電位控制范圍:±10V | 恒電流控制范圍：±2.0A |
電位控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV | 電流控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù) |
電位靈敏度：10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz) | 電流靈敏度：<10pA |
電位上升時(shí)間：＜1μS(<10mA),＜10μS(<2A) | 電流量程：2A～200nA, 共8檔 |
參比電極輸入阻抗：1012Ω||20pF | zui大輸出電流：2.0A |
槽壓輸出：±21V | 電流掃描增量：1mA @1A/mS |
CV和LSV掃描速度：0.001mV～10000V/s | 電位掃描電位增量：0.076mV @1V/mS |
CA和CC脈沖寬度：0.0001～65000s | DPV和NPV脈沖寬度：0.0001～1000s |
SWV頻率：0.001～100KHz | CV的zui小電位增量：0.075mV |
AD數(shù)據(jù)采集：16bit@1MHz，20bit @1kHz | 電流與電位量程：自動(dòng)設(shè)置 |
DA分辨率：16bit，建立時(shí)間：1μS | 低通濾波器 ：8段可編程 |
通訊接口：USB2.0 | 儀器重量：6.5Kg |
外形尺寸（cm）：36.5(W)X30.5 (D)X16 (H) |
電化學(xué)阻抗測(cè)量參數(shù)
信號(hào)發(fā)生器 | |
頻率響應(yīng)：10μHz～1MHz | 交流信號(hào)幅值：1mV～2500mV |
頻率精確度：0.005% | 信號(hào)分辨率：0.1Mv RMS |
直流偏壓：-10V～+10V | DDS輸出阻抗：50Ω |
波形：正弦波，三角波，方波 | 正弦波失真率：<1% |
掃描方式：對(duì)數(shù)/線性，增加/下降 | |
信號(hào)分析器 | |
zui大積分時(shí)間：106個(gè)循環(huán)或者105S | 測(cè)量時(shí)間延遲：0～105秒 |
zui小積分時(shí)間：10mS 或者一個(gè)循環(huán)的zui長(zhǎng)時(shí)間 | |
直流偏置補(bǔ)償 | |
電位補(bǔ)償范圍：-10V～+10V | 電流補(bǔ)償范圍：-1A～+1A |
帶寬調(diào)整：自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置, 共8級(jí)可調(diào) | |
CS2350雙單元電化學(xué)工作站功能方法
功 能 方 法 | 主單元 | 從單元 | 功 能 方 法 | 主單元 | 從單元 | ||
穩(wěn) 態(tài) 極 化 | 開路電位測(cè)量（OCP） | ? | ? | 溶 出 伏 安 | 恒電位溶出伏安 | ? | |
恒電位極化（i-t曲線） | ? | ? | 線性溶出伏安 | ? | |||
恒電流極化 | ? | ? | 階梯溶出伏安 | ? | |||
動(dòng)電位掃描（TAFEL曲線） | ? | ? | 方波溶出伏安 | ? | ? | ||
動(dòng)電流掃描（DGP） | ? | 交 流 阻 抗 | 電化學(xué)阻抗（EIS）～頻率掃描 | ? | ? | ||
暫 態(tài) 極 化 | 任意恒電位階梯波 | ? | 電化學(xué)阻抗（EIS）～時(shí)間掃描 | ? | |||
任意恒電流階梯波 | ? | 電化學(xué)阻抗（EIS）～電位掃描（Mott-Schottky曲線） | ? | ||||
恒電位階躍（VSTEP） | ? | ||||||
恒電流階躍（ISTEP） | ? | 腐 蝕 測(cè) 量 | 循環(huán)極化曲線（CPP） | ? | ? | ||
快速電位脈沖 | ? | 線性極化曲線（LPR） | ? | ? | |||
快速電流脈沖 | ? | 動(dòng)電位再活化法（EPR） | ? | ||||
計(jì) 時(shí) 分 析 | 計(jì)時(shí)電位法（CP） | ? | 電化學(xué)噪聲 (EN) | ? | |||
計(jì)時(shí)電流法（CA） | ? | 電偶腐蝕測(cè)量 (ZRA) | ? | ||||
氫擴(kuò)散測(cè)試（HDT）* | |||||||
計(jì)時(shí)電量法（CC） | ? | 電 池測(cè) 試 | 電池充放電測(cè)試 | ? | ? | ||
伏 安 分 析 | 線性掃描伏安法（LSV） | ? | ? | ||||
線性循環(huán)伏安法（CV） | ? | ? | 恒電流充放電 | ? | |||
階梯循環(huán)伏安法（SCV） | ? | ||||||
差分脈沖伏安法（DPV） | ? | 擴(kuò) 展 測(cè) 量 | 盤環(huán)電極測(cè)試 * | ? | |||
常規(guī)脈沖伏安法（NPV） | ? | 數(shù)字記錄儀 | ? | ? | |||
方波伏安法（SWV） | ? | 波形發(fā)生器 | ? | ? | |||
交流伏安法（ACV） | ? | 圓盤電機(jī)控制 | ? | ? | |||
常規(guī)差分脈沖伏安法（DNPV） | ? | ||||||
二次諧波交流伏安 (SHACV) | ? | ||||||
儀器配置：
1）儀器主機(jī)1臺(tái)
2）CorrTest測(cè)試與分析軟件1套
3）電解池（含鹽橋和排氣管）2套
4）鉑金電極、參比電極、工作電極各2支
5）模擬電解池1個(gè)
6）電源線/USB數(shù)據(jù)線各1條
7）電極電纜線2條
8）屏蔽箱（選配*）
雙單元電化學(xué)工作站(雙恒電位儀）CS2350雙單元電化學(xué)工作站(雙恒電位儀）CS2350
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