磁控離子濺射儀庫號(hào):M415910
磁控離子濺射儀 型號(hào):WZX-ARIES-700庫號(hào):M415910 查看hh
技術(shù)參數(shù)
適用場(chǎng)景 適用于CHAO高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM)及FIB樣品表面導(dǎo)電鍍層制備
真空泵組 無油隔膜泵+渦輪分子泵組合
抽速配置 隔膜泵≥0.7m7h,分子泵60 L/s
JI限真空<5x10Pa
工作氣壓0.5-8 Pa
氣體控制系統(tǒng) MFC氣體質(zhì)量流量控制器(>2SCCM)
濺射JI時(shí) <999s
真空測(cè)量 高真空復(fù)合真空計(jì)
腔室尺寸 φ170 x 135 mm
旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái) 直徑80 mm.轉(zhuǎn)速60RPM
靶基距離55-70mm 連續(xù)可調(diào)
濺射靶材支持中30mm靶材
濺射電源 恒功率濺射電源,ZUI大輸出電流100mA
操作方式 觸摸屏程序化控制
設(shè)備尺寸 430 mm (長)x 390 mm (寬) x 510 mm (高)
工作電源220V AC
磁控離子濺射儀 型號(hào):WZX-ARIES-700庫號(hào):M415910 查看hh
技術(shù)參數(shù)
適用場(chǎng)景 適用于CHAO高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM)及FIB樣品表面導(dǎo)電鍍層制備
真空泵組 無油隔膜泵+渦輪分子泵組合
抽速配置 隔膜泵≥0.7m7h,分子泵60 L/s
JI限真空<5x10Pa
工作氣壓0.5-8 Pa
氣體控制系統(tǒng) MFC氣體質(zhì)量流量控制器(>2SCCM)
濺射JI時(shí) <999s
真空測(cè)量 高真空復(fù)合真空計(jì)
腔室尺寸 φ170 x 135 mm
旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái) 直徑80 mm.轉(zhuǎn)速60RPM
靶基距離55-70mm 連續(xù)可調(diào)
濺射靶材支持中30mm靶材
濺射電源 恒功率濺射電源,ZUI大輸出電流100mA
操作方式 觸摸屏程序化控制
設(shè)備尺寸 430 mm (長)x 390 mm (寬) x 510 mm (高)
工作電源220V AC
磁控離子濺射儀庫號(hào):M415910


















































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