HPD-2400生產(chǎn)型設(shè)備次大氣輝光放電處理機-輝光放電光譜儀

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型號
品牌
所在地南京市
更新時間2026-07-02

南京蘇曼等離子科技有限公司

廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
所在地區(qū)南京市
實名認證已認證
產(chǎn)品數(shù)量29
人氣值2797

產(chǎn)品標簽

輝光等離子

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HPD-2400生產(chǎn)型設(shè)備次大氣輝光放電處理機-輝光放電光譜儀產(chǎn)品詳情

規(guī)格:
1. 型號：HPD-2400；
2. 電源：三相AC380V（±10%）
3. 功率：1000VA；
4. 電極尺寸：500mm×450mm；
5. 設(shè)備尺寸：720(W)×1360(H)×765(D)mm
6. 設(shè)備重量：180kg
7. 腔體壓力：500~3000Pa

用途：

1. 酶標板、細菌計數(shù)培養(yǎng)皿、細胞培養(yǎng)皿、組織培養(yǎng)皿的親水處理。經(jīng)過等離子體處理后細菌培養(yǎng)皿表面由疏水變?yōu)橛H水,并獲得支持細胞黏附鋪展的能力.并適用于細胞培養(yǎng)。等離子表面處理的效果可以簡單地用滴水來驗證，處理過的樣品表面*被水潤濕。
2. 生物芯片、人造血管、血管支架的處理
3. 等離子清洗、刻蝕、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。

關(guān)鍵詞：水處理

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