LFIX-4000氣體濃度配比裝置廣泛應(yīng)用于真空反應(yīng)技術(shù)，主要涉及對(duì)無(wú)氧、無(wú)水、低壓或特定氣氛環(huán)境有要求的工藝。本裝置面向 真空反應(yīng)設(shè)備，在動(dòng)態(tài)進(jìn)出氣運(yùn)行條件下，通過(guò)顯示屏觸摸軟件控制氣體濃度配比裝置的進(jìn)出氣流量精準(zhǔn)維持多組分氣體比例。
氣體濃度配比裝置實(shí)現(xiàn)操作端給定壓強(qiáng)、進(jìn)氣流量，控制系統(tǒng)比較壓強(qiáng)設(shè)定值與反應(yīng)腔體實(shí)時(shí)壓強(qiáng)值后，選擇開啟不同的工作管路，并通過(guò)檢測(cè)檢測(cè)室內(nèi)傳感器壓力信號(hào)-PID控制出口流量閥開度--穩(wěn)定壓力控制方式控制真空泵排氣流量和時(shí)間，從而維持進(jìn)出氣平衡；設(shè)備配備4種氣體的完整管路、流量計(jì)，4路氣源可任選進(jìn)行氣體混合；操作端為西門子系統(tǒng)，觸控屏幕；超壓報(bào)警：同時(shí)啟動(dòng)聲光報(bào)警，并開啟真空泵抽取體系內(nèi)氣體，滿頻運(yùn)行，快速泄壓.
氣體濃度配比裝置在真空反應(yīng)技術(shù)中得到廣泛應(yīng)用，如化學(xué)與工業(yè)行業(yè)、制藥與生物技術(shù)、及半導(dǎo)體材料化學(xué)氣相沉積（CVD）、原子層沉積（ALD）制備薄膜。電池材料：電極材料的干燥、鋰電電解液的脫水處理。納米材料合成：控制顆粒尺寸和純度（如量子點(diǎn)、碳納米管）等。
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