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塔瑪薩崎電子(蘇州)有限公司


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文了解光學(xué)測(cè)量設(shè)備——HORIBA堀場(chǎng)橢偏儀

閱讀:248發(fā)布時(shí)間:2024-10-16

文了解光學(xué)測(cè)量設(shè)備——HORIBA堀場(chǎng)橢偏儀



器件的制造是通過一系列**控制的加工工藝完成的,為了保證每步工序都能正確地進(jìn)行,在每一個(gè)工藝步驟中都有許多測(cè)量和監(jiān)控技術(shù),其中光學(xué)測(cè)量由于其非接觸、無破壞、無污染的特點(diǎn)被廣泛使用。

其中,光學(xué)測(cè)量的一項(xiàng)重要內(nèi)容是薄膜特性———例如厚度和光學(xué)性質(zhì)。目前,常用的光學(xué)測(cè)量技術(shù)根據(jù)其原理可分為: 光吸收法、干涉監(jiān)控法、偏振光分析法等。

今天小編為大家介紹的這款橢偏儀采用偏振光分析法也稱為橢圓偏振光譜測(cè)量技術(shù)),該方法是利用偏振光在材料表面反射后,相應(yīng)偏振態(tài)的改變來測(cè)量該材料的光學(xué)性質(zhì)。

HORIBA堀場(chǎng)橢偏儀概況

橢偏儀是一種用于探測(cè)薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備。由于并不與樣品接觸,對(duì)樣品沒有破壞且不需要真空,使得橢偏儀成為一種**吸引力的測(cè)量設(shè)備。

HORIBA堀場(chǎng)橢偏儀應(yīng)用

橢偏儀可測(cè)的材料包括:半導(dǎo)體、電介質(zhì)、聚合物、有機(jī)物、金屬、多層膜物質(zhì)。

橢偏儀涉及領(lǐng)域有:半導(dǎo)體、通訊、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、光學(xué)鍍膜、平板顯示器、科研、生物、醫(yī)藥等。

HORIBA堀場(chǎng)橢偏法測(cè)量?jī)?yōu)點(diǎn)

1、能測(cè)量很薄的膜(1nm),且精度很高,比干涉法高1~2個(gè)數(shù)量級(jí)。

2、是一種無損測(cè)量,不必特別制備樣品,也不損壞樣品,比其他精密方法如稱重法、定量化學(xué)分析法簡(jiǎn)便。

3、可同時(shí)測(cè)量膜的厚度、折射率以及吸收率。因此可以作為分析工具使用。

4、對(duì)一些表面結(jié)構(gòu)、表面過程和表面反應(yīng)相當(dāng)敏感,是研究表面物理的一種方法。

HORIBA堀場(chǎng)橢偏儀的分類及介紹

橢偏儀按照測(cè)試原理的不同,主要分為消光式和光度式兩類。大體可以分為PCSA 型消光式橢偏儀、旋轉(zhuǎn)偏振器件型橢偏儀、相位調(diào)制型橢偏儀、橢偏光譜儀、紅外橢偏光譜儀、成像橢偏儀和廣義橢偏儀。

HORIBA堀場(chǎng)橢偏儀廠家介紹

今天,小編為大家介紹的這家橢偏儀廠家——HORIBA科學(xué)儀器事業(yè)部,公司總部自1953年成立,是一家分析檢測(cè)儀器和設(shè)備制造商,并且以其高精尖的產(chǎn)品成功地將市場(chǎng)拓展到了各個(gè)國(guó)家和地區(qū)。

圖片1.png

HORIBA 研究級(jí)全自動(dòng)橢偏儀UVISEL 2

技術(shù)參數(shù):

光譜范圍:190-2100 nm

8種光斑尺寸: 小35 X 85 um

探測(cè)器:3個(gè)獨(dú)立探測(cè)器,分別優(yōu)化紫外,可見和近紅外

自動(dòng)樣品臺(tái)尺寸:200mm X 200mm;XYZ方向自動(dòng)調(diào)節(jié); Z軸高度>35mm

樣品水平度自動(dòng)調(diào)整

自動(dòng)量角器:變角范圍35°- 90°,全自動(dòng)調(diào)整,小步長(zhǎng)0.01°

圖片2.png

HORIBA一鍵式全自動(dòng)快速橢偏儀 Auto SE

主要特點(diǎn)

1. 液晶調(diào)制技術(shù),無機(jī)械轉(zhuǎn)動(dòng)部件,重復(fù)性,信噪比高

2. 技術(shù)成像技術(shù),所有樣品均可成像,對(duì)于透明樣品,自動(dòng)去除樣品的背反射信號(hào),使得數(shù)據(jù)分析更簡(jiǎn)單

3. 反射式微光斑,覆蓋全譜段,利于非均勻樣品圖案化樣品測(cè)試

4. 全自動(dòng)集成度高,安裝維護(hù)簡(jiǎn)便

5. 一鍵式操作軟件,快速簡(jiǎn)單

6. 自動(dòng)MAPPING掃描,分析樣品鍍膜均勻性

技術(shù)參數(shù)

1. 光譜范圍:450-1000 nm

2. 多種微光斑自動(dòng)選擇

3. 光斑可視技術(shù),可觀測(cè)任何樣品表面

4. 自動(dòng)樣品臺(tái)尺寸:200mmX200mm;XYZ方向自動(dòng)調(diào)節(jié); Z軸高度>35mm

5. 70度角入射

6. CCD探測(cè)器


HORIBA堀場(chǎng)科學(xué)儀器事業(yè)部:

HORIBA堀場(chǎng)高靈敏一體式熒光光譜儀FluoroMax -
HORIBA堀場(chǎng)模塊式熒光光譜儀Fluorolog-3
HORIBA堀場(chǎng)熒光光譜儀Aqualog
HORIBA 堀場(chǎng)原子力-拉曼聯(lián)用系統(tǒng)XploRA Nano
HORIBA 堀場(chǎng)多功能拉曼及成像光譜儀XploRA INV
HORIBA 堀場(chǎng)高速高分辨顯微共焦拉曼光譜儀LabRAM Odyssey
HORIBA堀場(chǎng)高靈敏一體熒光光譜儀FluoroMax-4
HORIBA堀場(chǎng)科研級(jí)熒光光譜儀 Fluorolog-3
HORIBA堀場(chǎng)模塊化科研級(jí)穩(wěn)瞬態(tài)熒光光譜儀Fluorolog-QM
HORIBA堀場(chǎng)OEM光譜儀VS7000


HORIBA堀場(chǎng)科學(xué)儀器事業(yè)部激光粒度儀:
HORIBA堀場(chǎng)激光粒度分布分析儀 LA-300
HORIBA堀場(chǎng)激光散射粒徑分布分析儀LA-350
HORIBA堀場(chǎng)激光粒度儀 LA-960 V2
HORIBA堀場(chǎng)緊湊型激光粒度儀Partica mini LA-350
HORIBA堀場(chǎng)真空紫外光譜儀.VTM300

HORIBA堀場(chǎng)納米顆粒分析儀 SZ-100 V2
HORIBA堀場(chǎng)納米顆粒追蹤分析儀

HORIBA堀場(chǎng)科學(xué)儀器事業(yè)部:

HORIBA堀場(chǎng)紅外碳硫分析儀EMIA-820V
HORIBA堀場(chǎng)可調(diào)單色光源Tunable PowerArc
HORIBA堀場(chǎng)探測(cè)器IGA array
HORIBA 堀場(chǎng)探測(cè)器
HORIBA堀場(chǎng)探測(cè)器Synapse CCD
HORIBA堀場(chǎng)在線橢偏儀 In-situ series
HORIBA 堀場(chǎng)智能型多功能橢偏儀Smart SE
HORIBA 堀場(chǎng)研究級(jí)全自動(dòng)橢偏儀UVISEL 2
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HORIBA堀場(chǎng)一鍵式全自動(dòng)快速橢偏儀


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