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Plasma 1000 ICP光譜儀

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更新時間:2025/09/22 12:42:06瀏覽次數(shù):388

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產(chǎn)品簡介

Plasma 1000 ICP光譜儀

詳細(xì)介紹

1.   分析流程全自動化控制,實(shí)現(xiàn)軟件點(diǎn)火、氣路智能控制功能;

2.   輸出功率自動匹配調(diào)諧,功率參數(shù)程序設(shè)定;       

3.   優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng),*的控制系統(tǒng),保證峰位定位準(zhǔn)確,信背比優(yōu)良;

4.   極小的基體效應(yīng);       

5.   測量范圍寬,超微量到常量的分析,動態(tài)線性范圍5—6個數(shù)量級;

6.   檢出限低,大多數(shù)元素的檢出限可達(dá)ppb級;

7.   良好的測量精度,穩(wěn)定性相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.5%(5ppm),優(yōu)于國家標(biāo)準(zhǔn)(JJG768-2005);

8.   Rf輸出功率的范圍750-1500W,輸出功率穩(wěn)定性小于0.1%;

9.   光電倍增管的負(fù)高壓可在0-1000V范圍內(nèi)獨(dú)立可調(diào),可根據(jù)不同元素的不同譜線單獨(dú)設(shè)置條件,和全譜儀器比較有更好的檢出限;

10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全;

11. 高精度的光室恒溫系統(tǒng),保證儀器優(yōu)良的長短期精度;

12. 多通道蠕動泵進(jìn)樣,保證儀器進(jìn)樣均勻,工作穩(wěn)定;

13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃,在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m(JJG768-2005規(guī)定小于10V/m)。

14. 具有較高的譜線分辨率,能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線,能分出鐵的四重峰。

15. 人性化的軟件設(shè)計,操作方便,升級。功能*、友好的人機(jī)界面分析軟件,可在測定過程中,進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,方法編制和結(jié)果分析,是真正的多任務(wù)工作軟件;該軟件數(shù)據(jù)處理功能*,提供了多種方法,如內(nèi)標(biāo)校正、IECS和QC監(jiān)測功能等,可獲得的背景扣除點(diǎn)以消除干擾;對輸出數(shù)據(jù)可直接打印或自動生成Excel格式的結(jié)果報告。

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