詳細摘要: Hakuto 全自動離子蝕刻機 MEL3100 具有良好的均勻性和高蝕刻率, 刻蝕均勻度: 5%, 硅片 Si 蝕刻速率 10 nm/min, 具有高冷卻效果....
產品型號:所在地:更新時間:2025-08-07 在線留言
伯東企業(yè)(上海)有限公司
詳細摘要: Hakuto 全自動離子蝕刻機 MEL3100 具有良好的均勻性和高蝕刻率, 刻蝕均勻度: 5%, 硅片 Si 蝕刻速率 10 nm/min, 具有高冷卻效果....
產品型號:所在地:更新時間:2025-08-07 在線留言詳細摘要: 上海伯東日本小型 Hakuto 離子蝕刻機 7.5IBE, 適用于科研院所, 實驗室研究, 干式制程的微細加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的...
產品型號:所在地:更新時間:2025-08-07 在線留言詳細摘要: 上海伯東日本適合中等規(guī)模量產使用的 Hakuto 離子刻蝕機 20IBE-C. 無論使用什么材料都可以用來加工.蝕刻均勻性: 5%, 硅片 Si 刻蝕速率20 ...
產品型號:所在地:更新時間:2025-08-07 在線留言詳細摘要: 上海伯東日本適合大規(guī)模量產使用的 Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J, 無論使用什么材料都可以用來加工.Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 配置使用...
產品型號:所在地:更新時間:2025-08-07 在線留言詳細摘要: 上海伯東日本離子蝕刻機 IBE 包含小型離子蝕刻機用于研究分析和大型離子蝕刻系統(tǒng)用于生產制造. Hakuto 離子蝕刻系統(tǒng)對磁性材料, 黃金, 鉑和合金金屬提供...
產品型號:所在地:更新時間:2025-08-07 在線留言詳細摘要: 上海伯東日本適合小規(guī)模量產使用和實驗室研究的 Hakuto 離子蝕刻機 10IBE.蝕刻均勻性: 5%, 硅 Si 刻蝕速率20 nm/min, 樣品臺: 直接...
產品型號:所在地:更新時間:2025-08-06 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
儀表網 設計制作,未經允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
請輸入你感興趣的產品
請簡單描述您的需求
號碼可能有誤,請核對!
請選擇省份