詳細摘要： Hakuto 全自動離子蝕刻機 MEL3100 具有良好的均勻性和高蝕刻率, 刻蝕均勻度: 5%, 硅片 Si 蝕刻速率 10 nm/min, 具有高冷卻效果....
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伯東企業(yè)（上海）有限公司
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詳細摘要： Hakuto 全自動離子蝕刻機 MEL3100 具有良好的均勻性和高蝕刻率, 刻蝕均勻度: 5%, 硅片 Si 蝕刻速率 10 nm/min, 具有高冷卻效果....
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詳細摘要： 上海伯東日本小型 Hakuto 離子蝕刻機 7.5IBE, 適用于科研院所, 實驗室研究, 干式制程的微細加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的...
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詳細摘要： 上海伯東日本適合中等規(guī)模量產使用的 Hakuto 離子刻蝕機 20IBE-C. 無論使用什么材料都可以用來加工.蝕刻均勻性: 5%, 硅片 Si 刻蝕速率20 ...
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詳細摘要： 上海伯東日本適合大規(guī)模量產使用的 Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J, 無論使用什么材料都可以用來加工.Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-J 配置使用...
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詳細摘要： 上海伯東日本離子蝕刻機 IBE 包含小型離子蝕刻機用于研究分析和大型離子蝕刻系統(tǒng)用于生產制造. Hakuto 離子蝕刻系統(tǒng)對磁性材料, 黃金, 鉑和合金金屬提供...
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詳細摘要： 上海伯東德國 Pfeiffer 干式真空泵 A4X 系列適合半導體、光伏等腐蝕性強的行業(yè), 干式真空泵抽速從 160 到 1,700 m3/h 滿足不同需求, ...
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詳細摘要： 上海伯東代理德國 Pfeiffer 干式真空泵(多級羅茨泵) ACG 600, 抽速 560 m3/h, 是干式真空泵 ACP 120 與羅茨泵的組合, 干式真...
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詳細摘要： 全磁浮渦輪分子泵 ATH 500 M, 對氮氣的抽速可達 550 l/s, 緊湊集成的全磁浮渦輪分子泵控制器. 全磁浮渦輪分子泵可以安裝在任何方向. CE標志和...
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詳細摘要： 全磁浮渦輪分子泵 ATH 1600 MT, 對氮氣的抽速可達 1360 l/s, 水冷, 可加熱抗腐蝕. 外部分子泵驅動電路. 全磁浮渦輪分子泵可以安裝在任何方...
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詳細摘要： 全磁浮渦輪分子泵 ATH 1603 M, 對氮氣的抽速可達 1400 l/s, 水冷. 外部分子泵驅動電路. 全磁浮渦輪分子泵可以安裝在任何方向. CE標志和通...
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詳細摘要： 上海伯東 Adixen by Pfeiffer 全磁浮渦輪分子泵 ATH 2300 M, 對氮氣的抽速可達 2150 l/s, 極限真空6X10-9 hPa, ...
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詳細摘要： 全磁浮渦輪分子泵 ATH 2804 M, 對氮氣的抽速可達 2350 l/s, 水冷. 外部分子泵驅動電路. 全磁浮渦輪分子泵可以安裝在任何方向. CE標志和通...
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詳細摘要： 全磁浮渦輪分子泵 ATH 3204 M, 對氮氣的抽速可達 2800 l/s, 水冷. 外部分子泵驅動電路. 全磁浮渦輪分子泵可以安裝在任何方向. CE標志和通...
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詳細摘要： 全磁浮渦輪分子泵 ATP 2300 M, 對氮氣的抽速可達 2050 l/s, 水冷. 接口 DN 250,外部分子泵驅動電路. 全磁浮渦輪分子泵可以安裝在任何...
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詳細摘要： 單級旋片真空泵 UnoLine Plus：耐用的旋片泵，適用于工業(yè)應用中最艱苦的環(huán)境上海伯東銷售維修單級旋片泵 UnoLine Plus 系列，真空度可達 10...
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詳細摘要： 伯東公司單級旋片真空泵 Adixen Pascal SD 系列 包含型號旋片泵 1005和旋片泵 1015單級旋片真空泵 Pascal SD 系列適合無腐蝕性氣...
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詳細摘要： 上海伯東銷售維修德國普發(fā) Pfeiffer DuoLine 系列雙級旋片泵，真空度10-3 hPa. 適合所有中低真空應用，DuoLine 系列旋片泵堅固耐用，...
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詳細摘要： 伯東公司雙級旋片真空泵 Pascal SD 系列適合無腐蝕性氣體的真空應用, 低回流率, 自然潤滑設計保證無油霧污染 (在抽速5-21 m3/h). 雙級旋片真...
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詳細摘要： 單級旋片泵 HenaLine：低震動，低噪音，運行溫度低！上海伯東單級旋片泵 HenaLine 系列抽速范圍25 至 1,920 m3/h，集成油霧分離器、回油...
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詳細摘要： 上海伯東銷售維修德國 Pfeiffer 單級旋片泵 UnoLine，真空度可達 10-2 hP。Pfeiffer 單級旋片泵 UnoLine可單獨使用也可作為渦...
產品型號：所在地：更新時間：2025-08-07 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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