真空噴鑄爐真空噴鑄爐產(chǎn)品簡介
該設(shè)備主要用于各種金屬材料在真空或氣氛保護(hù)條件下的感應(yīng)熔煉及快冷甩帶成型；噴鑄制作非晶顆粒，亞晶體顆粒，微粒，適合各種材料的非晶/微晶薄帶或薄片的制備。
真空噴鑄爐產(chǎn)品詳細(xì)信息
設(shè)備特點 設(shè)備用途：
該設(shè)備主要用于各種金產(chǎn)品詳細(xì)信息
設(shè)備特點 設(shè)備用途：
該設(shè)備主要用于各種金屬材料在真空或氣氛保護(hù)條件下的感應(yīng)熔煉及快冷甩帶成型；噴鑄制作非晶顆粒，亞晶體顆粒，微粒，適合各種材料的非晶/微晶薄帶或薄片的制備。
A· 實驗型采用冷滾旋淬法制備薄片或薄帶非晶材料
B· 采用噴鑄法制備塊狀或棒狀合金試樣，可用于制備大塊非晶材料 結(jié)構(gòu)組成 本設(shè)備主要由真空腔體、熔煉裝置、噴鑄裝置、甩帶裝置、抽真空系統(tǒng)、爐體支架、電氣控制系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)等組成。
設(shè)備參數(shù)
1、每次甩帶、噴鑄合金：50g~300g
2、每次熔煉澆鑄合金：50~1000g
3、高真空室真空度：≤5.0×10E-3Pa
4、加熱電源功率：25Kw；頻率范圍：30~80KHz
5、可通入氮氣、氬氣等惰性氣體
6、銅輥直徑：220mm，寬度：40mm
7、銅輥線速度：5~70m/S 8、水流量：3~100L/min
1、真空腔體：由爐體、爐蓋和爐底組成；爐體由304不銹鋼法蘭和內(nèi)外筒體組焊而成，內(nèi)壁鏡面拋光，爐體上開設(shè)有壓鑄接口、噴鑄接口、旋轉(zhuǎn)電極接口、甩帶收集管、紅外測溫接口、模具預(yù)熱電源電極引入接口；爐蓋由整體實心304加工而成，上面開設(shè)有大直徑觀察窗，可直觀的觀測到爐內(nèi)的各種實驗情況；爐底也是由整體實心304加工而成，固定有甩帶裝置。整體外觀啞光處理，整潔大方。
2、熔煉裝置：由 IGBT超音頻電源、水冷電纜、旋轉(zhuǎn)電極、線圈、保溫套和坩堝組成，通過更換線圈、保溫套和坩堝實現(xiàn)不同容量。***高溫度可加熱至1700℃。（容量按照50g,200g,500g,1000g來配），熔煉完成后可通過手動傾倒到模具內(nèi)。
3、噴鑄裝置：由氣缸、石英管、時間繼電器、氣源恒定裝置等組成，可實現(xiàn)小容量溶液的噴帶和噴鑄。（噴鑄配石英管，***大容量50g） 4、甩帶裝置：由噴鑄裝置、高速調(diào)速電機(jī)、磁流體密封裝置和銅棍等組成，可通過調(diào)節(jié)電機(jī)速度，實現(xiàn)不同銅棍線速度。
5、抽真空系統(tǒng)：由一臺擴(kuò)散泵、一臺雙極直聯(lián)泵、三臺氣動擋板閥、真空管路和真空計等組成，冷態(tài)極限真空度優(yōu)于5.0×10E-3Pa。
6、爐體支架：由型材和鋼板拼裝而成，門板全部采用數(shù)控加工，尺寸精度高，外表噴塑處理，整體布局合理，顏色搭配美觀。和電控柜采用一體結(jié)構(gòu)。
7、電氣控制系統(tǒng)：各種電氣元器件采用品牌，按照行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)制作而成。面板采用模擬屏，可直觀控制設(shè)備的各部件，并有水欠壓、斷水聲光報警并自動切斷加熱功能。
8、水冷卻系統(tǒng)：由水冷機(jī)、各種閥門和水管等組成，帶有電接點水壓表，具有超壓、欠壓報警功能。（水冷機(jī)為選配件）
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