河南酷斯特儀器科技有限公司
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產(chǎn)品型號
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所 在 地鄭州市
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更新時間：2025-07-17 09:22:11瀏覽次數(shù)：270次
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一、KDH-500非自耗真空電弧熔煉爐設(shè)備用途：用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料
一、 KDH-500非自耗真空電弧熔煉爐設(shè)備用途：
用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二、 KDH-500非自耗真空電弧熔煉爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：
1、型號：KDH-500
2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
3、真空系統(tǒng)配置：飛越VRD-30直聯(lián)泵、JTFB-1200分子泵、高真空氣動擋板閥和各種管路真空系統(tǒng)
4、冷態(tài)極限真空度：6.7x10E-4Pa
5、熔煉電流：額定電流≤500A
6、引弧方式：高頻脈沖引弧
7、熔煉坩堝：共有5工位，有3個￠70*35半球形工位窩，***容重（樣品重量）50-130(克），2個￠50*35一個吸鑄工位，一個電磁攪拌工位。帶翻料機構(gòu)，可以翻料重熔和轉(zhuǎn)移樣品
8、帶吸鑄工位，容重（樣品重量）50-80(克）吸鑄模具滑配設(shè)計方便拆卸。
9、工作氣體：Ar氣；
10、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧
11、電極桿和機械手均采用球密封機構(gòu)，簡便有效；電極桿電動升降，操作便攜
12、爐體側(cè)部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便，門上有操作觀察窗方便看清內(nèi)部熔化情況。
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