河南酷斯特儀器科技有限公司
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1.設備用途及特點本設備主要供生產企業(yè)針對金屬化合物、陶瓷、無機化合物、納米材料等在真空或保護氣氛的條件下進行加壓加熱燒結處理，以便獲得高致密度的產品，可用于連續(xù)生產
1. 設備用途及特點
本設備主要供生產企業(yè)針對金屬化合物、陶瓷、無機化合物、納米材料等在真空或保護氣氛的條件下進行加壓加熱燒結處理，以便獲得高致密度的產品，可用于連續(xù)生產。設備采用一機壓機循環(huán)***，多爐循環(huán)加壓的方式，來實現連續(xù)加熱加壓燒結。
2. 方案圖
（圖片僅供參考）
3. 主要技術參數
3.1 電源：三相 380V 50Hz
3.2 設備總功率：200Kw±10%
3.3單臺加熱功率：30Kw±10%
3.4***溫度：1100℃
3.5工作區(qū)尺寸：Φ300*300（D*H，mm）
3.6加熱控制方式：單臺 加熱控制，6臺整體***
3.7控溫方式：鎢錸熱電偶
3.8控溫精度：±1℃
3.9冷態(tài)極限真空度：10Pa（空爐、冷態(tài)、烘烤除氣后）
3.10壓升率：3Pa/h
3.11充氣氣氛：惰性氣體
3.12充氣壓力（微正壓）：≤0.03MPa
3.13***壓力：15T（數顯、自動調壓、自動保壓、比例液壓）
3.14壓頭直徑：Ф85 mm
3.15壓力波動：≤±0.1MPa，位移精度≥0.02mm
3.16壓力行程：0～100mm（數顯）
3.17液壓控制：電動
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