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微電子行業(yè)SEM樣品制備方法及應(yīng)用

閱讀:175發(fā)布時間:2026-2-24

微電子行業(yè)SEM樣品制備方法及應(yīng)用

徠卡精研一體機TXP可以對樣品進行精確定位研磨,高效率的處理以往難以制備的樣品。徠卡三離子束切割拋光儀TIC3X可對樣品進行無應(yīng)力損傷和無磨料污染的氬離子束切割拋光,確保樣品適合高倍率掃描電鏡圖像觀察,或者EDS和EBSD分析。徠卡超薄切片機UC7是利用鉆石刀對樣品進行精細(xì)準(zhǔn)確切割,非常適合于銅、鋁和高分子膜層的截面制備。

TXP是徠卡研發(fā)的集切割、研磨、拋光、銑削和沖鉆五位一體的多功能精研一體機。

以TXP制備電子樣品的應(yīng)用舉例:

芯片缺陷點剖析

樣品描述

樣品為厚度400微米長度25左右毫米的硅片基底芯片,反面粘有塑料薄片。(缺陷點的記號筆標(biāo)記位置)

使用金相顯微鏡放大200倍后發(fā)現(xiàn)右起第三根指針有一小截與第四根指針相連,為缺陷位置,需要從中間刨開。

紅圈為目標(biāo)位置,大約 8μm)

用金剛石鋸片切斷樣品,距離目標(biāo)位置800μm左右。(TXP精研一體機省去包埋)

(加工角度,樣品傾斜30度觀察)

第二步

轉(zhuǎn)速1500轉(zhuǎn)/分鐘,400#碳化研磨砂紙,研磨量600μm。研磨過程芯片邊緣不破損,平整無倒角!

芯片正面觀察角度,400#碳化硅砂紙研磨之后)

第三步

轉(zhuǎn)速2300轉(zhuǎn)/分鐘,9微米金剛石砂紙研磨,研磨量120μm,研磨之后樣品劃痕變細(xì)。

第四步

轉(zhuǎn)速2300轉(zhuǎn)/分鐘,2微米金剛石砂紙研磨,研磨量為60μm,研磨之后樣品劃痕變細(xì)!

第五步

轉(zhuǎn)速2300轉(zhuǎn)/分鐘,0.5μm金剛石砂紙研磨,研磨量為20μm,研磨之后樣品面到達觀察分析要求!

芯片制樣結(jié)果

芯片表面觀察角度)

芯片截面觀察角度)



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