一般來說X熒光光譜儀運用到的X射線熒光是一個表面分析的方法，它的分析方法是一個相對分析方法，這就要求任何制樣過程和步驟必須有非常好的重復(fù)操作可能性。因此測試人員在制樣的時候得嚴(yán)格且精細(xì)，樣品的分析面相對于整個樣品要有代表性。

1、避免制備樣品時發(fā)生誤差和樣品自身引起的誤差：

（1） 樣品的均勻性。

（2） 樣品的表面效應(yīng)。

（3） 粉末樣品的粒度和處理方法。

（4） 樣品中存在的譜線干擾。

（5） 樣品本身的共存元素影響即基體效應(yīng)。

（6） 樣品的性質(zhì)。

（7） 標(biāo)準(zhǔn)樣品的化學(xué)值的準(zhǔn)確性。

X熒光光譜儀的分析原理圖

2、了解一些引起樣品誤差的原因，做好規(guī)避：

（1）樣品物理狀態(tài)不同，樣品的顆粒度、密度、光潔度不一樣；樣品的沾污、吸潮，液體樣品的受熱膨脹，揮發(fā)、起泡、結(jié)晶及沉淀等。

（2）樣品的組分分布不均勻 樣品組分的偏析、礦物效應(yīng)等。

（3）樣品的組成不一致 引起吸收、增強(qiáng)效應(yīng)的差異造成的誤差

（4）被測元素化學(xué)結(jié)合態(tài)的改變 樣品氧化，引起元素百分組成的改變；輕元素化學(xué)價態(tài)不同時，譜峰發(fā)生位移或峰形發(fā)生變化引起的誤差。

（5）制樣操作 在制樣過程中的稱量造成的誤差，稀釋比不一致，樣品熔融不，樣品粉碎混合不均勻，用于合成校準(zhǔn)或基準(zhǔn)試劑的純度不夠等。

此外，樣品的平均粒度和粒度分布；樣品中是否存在不均勻的多孔狀態(tài)等都需要測試人員的注意，可以說，在樣品制備過程有很多步驟，X熒光光譜儀樣品制得好，分析數(shù)據(jù)事半功倍！