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主要特點　　復合氧化物氫分離膜制備用CVD設(shè)備，可以實現(xiàn)在多孔氧化鋁陶瓷管和陶瓷片上化學沉積上氧化物(SiO2、Al2O3、TiO2、ZrO2)和復合氧化物(A...

主要特點　　此款設(shè)備由電動滑軌式管式爐、三路供氣系統(tǒng)、真空及過濾系統(tǒng)、前驅(qū)體鼓泡裝置，氣體預熱裝置、軟件控制等部分組成

主要特點　　1.此款設(shè)備提供兩個獨立滑動的溫場，兩溫場獨立控制，每個溫場的加熱區(qū)的長度為230mm，可在實驗過程中推進或推離樣品，提供兩個位置的快升降溫

主要特點　　此設(shè)備特點是將硫粉放于左端冷區(qū)，當硫化過程開始時利用拉桿式將硫粉推進熱場

主要特點Mainfeatures前端配有預熱爐

主要特點　　前端配有可加熱到400℃的預加熱器，輔助硫粉蒸發(fā)，后端為雙溫區(qū)硫化爐，溫度控制精確，操作簡便

高溫高壓爐 BTF-1200C-HP本設(shè)備用于高溫高壓實驗用途，由外接三種氣體即氙氣.氮氣.氫氣通過高壓管進入氣體調(diào)節(jié)閥，再由調(diào)節(jié)閥通過高壓管進入質(zhì)量流量計，再...

單溫區(qū)滑軌式PECVD系統(tǒng) BTF-1200C-SL-PECVD我公司研制的滑軌式PECVD系統(tǒng)能使整個實驗腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光均勻等效，這種技術(shù)很好的解...

大型卷對卷連續(xù)石墨烯膜生長設(shè)備基于廣大科研界對實現(xiàn)大面積單層石墨烯薄膜在工業(yè)銅箔基底上卷對卷宏量制備的需求,我公司開發(fā)出一種新的卷對卷連續(xù)快速生長石墨烯薄膜的方...

高真空自動循環(huán)設(shè)備（型號：BTF-1200C-HV）該款的高真空自動循環(huán)設(shè)備，內(nèi)外雙熱電偶控制，內(nèi)熱電偶制動，使用者可以設(shè)定設(shè)備循環(huán)溫度點，可根據(jù)內(nèi)熱電偶測得的...

低真空CVD系統(tǒng) （BTF-1500C-3ZL） 此款CVD系統(tǒng)是由多通道高精度的質(zhì)量流量計、低真空機組以及1500度高溫管式爐組成。其廣泛應用在半導體、納米材...

快速升溫爐 BTF-1200C-RTP-S90A 這是一款精巧型快速熱處理管式爐,石英管管徑為90mm,石英樣品舟可直接劃出爐腔，樣品舟尺寸可根據(jù)實驗需求定制，...

大口徑滑軌爐該款設(shè)備主要特點是管徑大，恒溫區(qū)長，溫度精確，適用于多樣品燒結(jié)或中試實驗。超大口徑石英管滿足更多實驗需要。爐管可以滑動能實現(xiàn)快速升降溫的功能。該款廣...

單端滑軌爐（BTF-1200C-SLD） 該款設(shè)備主要針對一些高真空退火，快速升溫爐（RTP），高壓燒結(jié)，快速淬火，正壓CVD，電極測試等功能，其設(shè)計滑軌可以在...

氫氣爐 ZMF-1700C-H2是一款自主研發(fā)的高溫氣氛箱式爐，此款儀器專門針對于材料在氫氣環(huán)境或惰性氣體環(huán)境進行燒結(jié)或是退火，其溫度可高達1700℃。ZMF-...

自動RTP快速升溫管式爐BTF-1200C-RTP-180 開啟式RTP快速升溫管式爐由我公司自主研發(fā)的功能*的加熱設(shè)備。該產(chǎn)品采用*制造工藝，造型新穎結(jié)構(gòu)合理...