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真空CVD管式爐是由：真空管式爐、氣體流量計(jì)、真空泵三部分構(gòu)成。廣泛用于：真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結(jié)等場所。該系統(tǒng)技術(shù)成熟、質(zhì)量可靠；該系統(tǒng)是材料實(shí)驗(yàn)室的理想設(shè)備之一。
真空CVD管式爐采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，并帶有風(fēng)冷系統(tǒng)，使得殼體表面溫度小于55℃
內(nèi) 內(nèi)爐膛表面涂有1750℃進(jìn)口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐膛潔凈度。真空密封系統(tǒng) 由兩個不銹鋼密封法蘭，極限真空度≤10-2 Pa or 10-4 Pa
真空CVD管式爐有四路供氣系統(tǒng) 可以用于控制一種到四種的氣體流經(jīng)真空密封的管式爐，這種氣體控制系統(tǒng)安裝在移動架上，管式爐可以放在上面，氣體控制系統(tǒng)的前面板上有控制并顯示氣體流量的調(diào)節(jié)閥。結(jié)合管式爐，它可以用于CVD系統(tǒng)及退火爐，用來研究氣體環(huán)境對材料的影響。
真空CVD管式爐可選配質(zhì)量流量控制器跟浮子流量計(jì)。
質(zhì)量流量控制器：
工作電壓：185~245V/50Hz
輸出功率：18W
控制范圍：
控制器1：1~199 SCCM
控制器2：1~499 SCCM
工作溫度：5~45 ?C
壓力：3x106 Pa
準(zhǔn)確度：±1% FS
控制閥及管線連接等
浮子流量計(jì)：流量速率在25to250ml/min

管式爐技術(shù)參數(shù)
	產(chǎn)品用途：高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、質(zhì)量檢測。粉末冶金行業(yè)以及義齒加工行業(yè)的烘烤、氧化鋯盤預(yù)燒結(jié)等。根據(jù)加熱區(qū)大小，進(jìn)行小試，中試，批量生產(chǎn)。
	產(chǎn)品型號	MXG1200-60	加熱區(qū)尺寸	440mm恒溫150mm
	極限溫度	1200℃	工作溫度	≤1100℃
	石英管	60541000mm	加熱溫區(qū)數(shù)	1
	表面溫度	＜60℃	控溫精度	±1℃
	設(shè)備功率	4 KW	工作電壓	單相220V
開門方式	上開式
殼體結(jié)構(gòu)	雙層，殼體間風(fēng)扇制冷，可使?fàn)t體表面快速降溫。
節(jié)能效果	★ 保溫時僅需40%功率
數(shù)據(jù)顯示模式	LED數(shù)顯儀表	★可選配豪華型智能觸摸屏儀表，實(shí)時曲線顯示，也可用U盤導(dǎo)出數(shù)據(jù)，在電腦上安裝查看軟件

控制模式	智能PID調(diào)節(jié)、模糊控制、自整定功能
溫度曲線	30段可編程控制，可設(shè)置30段升降溫程序
測溫元件	K型熱電偶
加熱元件	優(yōu)質(zhì)摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲環(huán)形加熱，溫場均勻，能耗低升溫速率建議:10℃/Min Max:20℃/Min
爐膛保溫材料	1500型高純氧化鋁微晶體纖維，保溫性能好
售后服務(wù)	12個月質(zhì)保（相關(guān)易耗件除外），終身保修
包裝方式	三合板木質(zhì)包裝箱
電源線	標(biāo)配2米若需更長，請購買設(shè)備時提前說明，需另購
坩堝	我司有各種規(guī)格的坩堝，需要可咨詢業(yè)務(wù)人員
設(shè)備外形尺寸	620mm（長）420mm（寬）520mm（高）
設(shè)備重量	50Kg
控制方式擴(kuò)展	★ 可選配485轉(zhuǎn)換接口，實(shí)現(xiàn)與計(jì)算機(jī)相互連接。選配專用的電腦控制系統(tǒng)來完成與單臺或多達(dá)200臺電爐的遠(yuǎn)程控制、實(shí)時追蹤、歷史記錄、輸出報表等功能。為客戶提供方便，本公司也可以代購電腦。
隨機(jī)配件	防護(hù)手套1雙；坩堝鉗1把；剛玉舟1只；石英管；爐塞；爐勾；6號內(nèi)六角（法蘭專用）；法蘭一套；配套氣管；高溫密封圈8個；產(chǎn)品說明書1份；儀表說明書1份；保修證書1份。
配件圖片
			剛玉舟	石英管
	爐塞	不銹鋼法蘭	高溫密封圈
非標(biāo)訂制	★此型號適合小型實(shí)驗(yàn)用 ★若批量生產(chǎn)用，可根據(jù)實(shí)際需要訂制更大爐膛，最小1L，幾個立方，具體咨詢業(yè)務(wù)人員。
使用注意事項(xiàng)	管式爐使用一段時間后，爐膛會出現(xiàn)微小的裂紋，這屬于正?，F(xiàn)象，不會影響使用，可聯(lián)系我司售后部門索取免費(fèi)氧化鋁涂層進(jìn)行修補(bǔ)。