當前位置:李滄區(qū)宏博盛達商行>>KOU罩檢測設(shè)備>>kou罩微生物細菌檢測>> KXLL-01口/罩泄漏率試驗臺
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號KXLL-01
品 牌路博環(huán)保
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地青島市
聯(lián)系方式:葉樹森查看聯(lián)系方式
更新時間:2025-09-03 08:15:46瀏覽次數(shù):425次
聯(lián)系我時,請告知來自 儀表網(wǎng)| 產(chǎn)地 | 國產(chǎn) | 加工定制 | 否 |
|---|---|---|---|
| 執(zhí)行質(zhì)量標準 | 歐規(guī) |
口/罩泄漏率試驗臺
概述
1.1設(shè)備簡介
泄漏率試驗臺是在參考國外類似設(shè)備的基礎(chǔ)上進行自主吸收,作了進一步的改進,依據(jù)國家和行業(yè)標準,重新設(shè)計生產(chǎn)的對對口/罩的泄漏率,密合性進行測試的試驗裝置。采用鹽性和油性氣溶膠發(fā)生器,光度計采集系統(tǒng)。它增加了計算機控制系統(tǒng),提高了自動化水平,是目前國內(nèi)外同類型產(chǎn)品中/功能齊全、技術(shù)*、自動化水平高的試驗裝置。
泄漏率試驗臺技術(shù)方案中的供貨方將根據(jù)本技術(shù)協(xié)議方案,負責所供面罩泄漏率的測試測試系統(tǒng)的機械設(shè)備,電氣設(shè)備和相應(yīng)的控制裝置(包括軟件及硬件)的設(shè)計和制造。
使用方將負責測試系統(tǒng)的基礎(chǔ)設(shè)計和氣源、供電、場地和環(huán)境溫濕度的保證。
本技術(shù)方案包含的面罩泄漏率的主體管路系統(tǒng)、氣溶膠發(fā)生系統(tǒng)、顆粒測試系統(tǒng)、傳感采集系統(tǒng)、煙霧艙相應(yīng)的控制系統(tǒng) (包括軟件及硬件)和動力系統(tǒng)。
3.設(shè)備的技術(shù)要求
設(shè)備供貨方為本項目的總負責單位,負責所提供的泄露測試儀的機械、電氣控制、數(shù)據(jù)處理等系統(tǒng)的設(shè)計和供貨,同時對其所提供的設(shè)備和服務(wù)的正確性、完整性、安全性負責。
3.2主要技術(shù)要求
3.2.1設(shè)備的主要組成
泄漏率試驗臺為國內(nèi)制造生產(chǎn),但是核心元器件光度計為國外進口產(chǎn)品。整個氣路所需氣源為外部壓縮空氣,檢測氣路的動力由真空泵提供。在發(fā)生氣路上設(shè)置氣溶膠發(fā)生器、發(fā)生管路1套;檢測氣路上設(shè)置帶氣缸的氣動夾具1套、光度計2臺、密封艙一個。
3.2.2依據(jù)標準
GB 2626-2019《呼吸防護 自吸過濾式防顆粒物呼吸器》6.4泄漏率
GB 19083-2010《科研防護口/罩技術(shù)要求》密合性
EN 149-2001+A1-2009 (選配)
3.2.3試驗內(nèi)容
泄漏率(GB 2626-2019)
密合性(GB 19083-2010)
泄漏率(EN 149-2001+A1-2009)(選配)
3.2.4整機技術(shù)參數(shù)
1.氣溶膠類型:玉米油,NaCl
2.氣溶膠動力學粒徑范圍:(油性)(0.02-2)um,質(zhì)量中徑0.3um.
(鹽性)(0.02-2)um,質(zhì)量中徑0.6um .
3.光度儀:濃度范圍1ug/m3-100mg/m3
4.外觀尺寸:檢測倉:1300X1100X2350 ,控制柜:1300X900X2350
5.耗材:油性溶液制備(按照標準),NaCl溶液制備(按照標準),壓縮空氣進氣過濾器中的濾芯(每年),倉內(nèi)空氣排出凈化濾芯(每年)
6.試驗室進氣溫度:(25±5)℃;
7.試驗室進氣環(huán)境溫濕度:(30±10)%RH;
10電力:中國制式,供電電壓AC220V±10%,供電頻率50Hz±1%,功率3kW
4泄漏率試驗臺性能特點

5設(shè)備主要組成
5.1 三級過濾器
級為Q級,能除去大量的液體及3μm以上固體微粒,達到低殘留油分含量僅5ppm,有少量的水分、灰塵和油霧;
第二級為P級,能濾除小至1μm的液體及固體微粒,達到低殘油分含量僅0.5ppm,有微量水分、灰塵和油霧;
第三級為S級,能濾除小至0.01μm的液體及固體微粒,達到低殘油含量僅0.001ppm,幾乎所有的水分、灰塵和油都被去除;
5.2 氣溶膠發(fā)生器
氣溶膠的發(fā)生方法眾多,其中壓縮空氣噴霧法相對簡單適用,并且發(fā)生的粒子濃度較高,本儀器所設(shè)計發(fā)生器即采用壓縮空氣噴霧法,其外觀構(gòu)造見下圖,其中的核心部件——噴嘴能發(fā)生高濃度多分散亞微米氣溶膠粒子。發(fā)生器整體設(shè)計保證噴嘴噴霧發(fā)生的氣溶膠分散度和粒徑保持穩(wěn)態(tài)分布。


5.3排出過濾器
高效過濾器,其或?qū)α?ge;0.3μm微粒的計數(shù)透過率≤0.001%(即效率≥99.999%)的過濾器為高效空氣過濾器用于試驗艙的排塵
5.4 光度計
光度計參數(shù):
探頭數(shù)量:2
檢測濃度范圍:1.0 μg/m3~100 mg/m3
量程選擇:自動
5.5 控制量板卡
帶DIO、計數(shù)器功能,AD緩存:8K FIFO,分辨率16bit,模擬輸入電壓10V,電壓范圍精度2.2mV,電壓范圍精度69uV。用于實時采集加速度傳感器及角度傳感器的反饋值。此卡自帶緩存功能,避免了由于工業(yè)PCI卡及PLC系統(tǒng)由于分析時間較長而造成的數(shù)據(jù)失真。
聯(lián)系:
6.控制部分及后期處理
6.1控制功能
6.2數(shù)據(jù)檢測、處理功能
6.3控制策略
對于系統(tǒng)而言,控制器是整個系統(tǒng)的控制核心和網(wǎng)絡(luò)樞紐,對它的選擇至關(guān)重要。當前,基于單PC的集成板卡的控制方案和基于PLC單獨控制方案占據(jù)系統(tǒng)開發(fā)的主導(dǎo)地位,然而它們又各有缺點難以相互取代。
6.4基于單PC的集成板卡的控制方案
在這種控制應(yīng)用方案中,系統(tǒng)的軟件平臺可以采用windowsNT,windows CE或Linux等,通用IO板卡和IO接線端子板(或現(xiàn)場總線卡、現(xiàn)場總線以及遠程I/O模塊)負責與工業(yè)控制現(xiàn)場打交道。采集上來的輸入信號被PC微機接收、分析,再經(jīng)過軟PLC運行系統(tǒng)處理,軟PLC開發(fā)系統(tǒng)(編程器)編寫的控制應(yīng)用程序也被軟PLC運行系統(tǒng)解釋執(zhí)行,后將處理后的信號輸出到本地(或遠程)控制現(xiàn)場完成相應(yīng)的本地控制(或遠程控制)功能,及其控制方案和過程。
工控機結(jié)合I/0板卡的控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)如上所示.主要由工控機、數(shù)字量輸入輸出板卡、模擬量輸入輸出板卡、按鈕、開關(guān)、精密可調(diào)變位器等控制設(shè)備、數(shù)值采樣傳感器、指示燈等構(gòu)成。根據(jù)現(xiàn)場的實際需求,進行被控設(shè)備與控制系統(tǒng)間的連接,另外.可在擴展槽中插入相應(yīng)板卡以拓展系統(tǒng)的控制功能.
基于PC的控制是指采用PC的軟件硬件,實現(xiàn)PLC的控制功能,又充分體現(xiàn)PC機在通訊、存儲、編程等方面的靈活性和較高的性價比。但是相比PLC其缺點也是顯而易見:穩(wěn)定性差,不能實現(xiàn)確定性控制,且容易死機重啟;可靠性差,采用非工業(yè)標準的加固部件和旋轉(zhuǎn)式磁盤容易產(chǎn)生故障;開發(fā)平臺不統(tǒng)一,雖然PC控制能夠完成許多控制的應(yīng)用,但是往往需要不同的開發(fā)環(huán)境。同時,PCI板卡價錢相對較高。
基于PC的控制是指采用PC軟件硬件,實現(xiàn)PLC的控制功能,又充分體現(xiàn)PC在通訊、存儲、編程等方面的靈活性和較高的性價比。但是相比PLC其缺點也是顯而易見:穩(wěn)定性差,不能實現(xiàn)確定性控制,且容易死機重啟;可靠性差,采用非工業(yè)標準的加固部件和旋轉(zhuǎn)式磁盤容易產(chǎn)生故障,開發(fā)平臺不統(tǒng)一,雖然PC控制能夠完成許多控制的應(yīng)用,但是往往需要不同的開發(fā)環(huán)境。
本控制系統(tǒng)通過實時采集系統(tǒng)內(nèi)濃度等參數(shù),運用工控機與板卡對采集的參數(shù)進行處理,執(zhí)行軟件控制程序,來完成對開關(guān)閥、調(diào)節(jié)閥、真空泵等的系統(tǒng)控制,實現(xiàn)試驗過程。后,通過打印機對試驗數(shù)據(jù)報表進行數(shù)據(jù)打印和輸出。同時,計算機控制系統(tǒng)還可以實時監(jiān)控試驗狀態(tài),對現(xiàn)場異常狀況進行報警顯示與輸出。
6.5試驗數(shù)據(jù)部分



6.6電氣安全與保護系統(tǒng)
7.設(shè)備配套要求及完成試驗所需
7.1設(shè)備配套
7.1.1壓縮空氣源
壓縮空氣壓力在0.5~0.7MPa,流量大于0.3m3/min,并要求壓縮空氣干燥、潔凈
7.1.2電力配套
220VAC,50Hz;3kW以上的穩(wěn)定電源,引導(dǎo)至設(shè)備附近半徑小于等于2M范圍之內(nèi)的大功率控制柜內(nèi)
口/罩泄漏率試驗臺
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