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日本HORIBA LE 系列 大流量液體源汽化控制系統(tǒng)

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更新時(shí)間:2025-09-02 08:54:50瀏覽次數(shù):207次

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LE 系列液體源汽化控制系統(tǒng)可在高達(dá) 300℃ 的溫度下運(yùn)行,IPA(或等效物質(zhì))汽化效率可達(dá) 30g/min。


  • 新設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)汽化率的
  • 新噴嘴確保持續(xù)穩(wěn)定的液體注入,實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的蒸氣輸出濃度
  • 全不銹鋼設(shè)計(jì)限度地提高耐腐蝕性,減少顆粒產(chǎn)生
  • 適用于多種液體材料


LE 系列大流量液體源汽化控制系統(tǒng)

Large Flow Liquid Source Vaporization Control System LE Series Image

LE 系列大流量高效汽化器將通道和加熱器元件嵌入鑄鋁塊,確保的傳熱率,并消除冷點(diǎn)和冷凝風(fēng)險(xiǎn)。該液體源汽化控制系統(tǒng)可在高達(dá) 300℃ 的溫度下運(yùn)行,IPA(或等效物質(zhì))汽化效率可達(dá) 30g/min。

特征:


  • 新設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)汽化率的
  • 新噴嘴確保持續(xù)穩(wěn)定的液體注入,實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的蒸氣輸出濃度
  • 全不銹鋼設(shè)計(jì)限度地提高耐腐蝕性,減少顆粒產(chǎn)生
  • 適用于多種液體材料
技術(shù)參數(shù):


Application liquid H2O/IPA/TEOS/SiCl4

Please contact HORIBA if you require vaporizing any liquid materials that are not listed here.
Maximum vaporization volume (gas flow rate) H2O : 10g/min (12.4 SLM)
IPA : 30g/min (11.1 SLM)
TEOS : 50g/min(5.3 SLM)
SiCl4 : 130g/min(17.1 SLM)


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