璃改性工藝用真空鍍膜主要指一類需要在高真空狀態(tài)下進(jìn)行的玻璃鍍膜。真空鍍膜設(shè)備是鍍膜玻璃生產(chǎn)線中關(guān)鍵設(shè)備，鍍膜段高本底真空和腔體的低漏率是生產(chǎn)優(yōu)質(zhì)鍍膜玻璃的前提和保證。因此，所加工的真空鍍膜腔體不僅要求快速地抽空，而且要求漏率＜1×10-7mbar./s。
傳統(tǒng)的檢漏方式存在本底真空度低和高污染的問題，并且對更為小的漏孔難以檢漏。因此我們提出了利用氦質(zhì)譜檢漏儀對真空鍍膜腔體進(jìn)行檢漏操作。該方案具有靈敏度高和能夠精確定位漏孔等優(yōu)點(diǎn)。
真空系統(tǒng)的漏氣是的，不漏氣是相對的。真空鍍膜腔體在泵抽系統(tǒng)的作用下不斷向外排氣，用以維持本底的高真空。由于真空鍍膜腔體一直處于抽空狀態(tài)，外部示漏氣體氦氣通過鍍膜腔體真空系統(tǒng)進(jìn)入檢漏儀。氦質(zhì)譜檢漏儀通過檢漏口閥門連接到真空泵抽系統(tǒng)中。
系統(tǒng)檢查完成后，開啟柜外電源，關(guān)閉柜內(nèi)斷路器；開啟循環(huán)冷卻水系統(tǒng)；開啟旋片泵和羅茨泵，達(dá)到真空度后開啟分子泵；啟動檢漏儀，達(dá)到開啟狀態(tài)后對可疑漏點(diǎn)進(jìn)行噴氦，檢漏完成后依次關(guān)閉系統(tǒng)。
真空鍍膜裝備在加工制造和安裝調(diào)試過程中都有可能形成漏孔。主要有以下原因：焊接缺陷，冷加工缺陷，密封面粗糙，密封圈受損。針對漏孔形成的原因，應(yīng)當(dāng)在生產(chǎn)和安裝調(diào)試過程中加以注意。
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