XD-1000上照式光譜測(cè)厚儀，對(duì)各類(lèi)鍍層厚度分析的同時(shí)可對(duì)電鍍液進(jìn)行分析，適用于各種超大件、異形凹槽件、微小密集型多點(diǎn)測(cè)試或自動(dòng)逐個(gè)檢測(cè)大量的小部件，如線(xiàn)路板、引線(xiàn)支架、衛(wèi)浴產(chǎn)品等。下面和一六儀器一起了解X熒光儀器工作原理。

　　X熒光光譜測(cè)厚儀儀器工作原理：

　　1)在 X 射線(xiàn)管中，由加熱陰極產(chǎn)生的電子，在受到為 50KV 的可調(diào)高壓的加速后，轟擊陽(yáng)極(通常由鎢或鉬組成)。

　　2)電子的動(dòng)能主要轉(zhuǎn)化為韌致輻射。此外，在陽(yáng)極(例如鎢)上還會(huì)產(chǎn)生的，高強(qiáng)度的 X 射線(xiàn)熒光輻射。初級(jí)輻射就是這兩種輻射的組合。能量為 50KeV。

　　3)采用不同大小和形狀(圓形，正方形，槽型)的視準(zhǔn)器，可選擇 X 射線(xiàn)射到工件上的形狀和尺寸，這樣就可以測(cè)量小到約 50Ⅹ50 µm 的測(cè)量點(diǎn)。視準(zhǔn)器由通透的可進(jìn)行測(cè)量點(diǎn)光學(xué)成像的材料組成。

　　4)有一個(gè)光源(圖中沒(méi)有畫(huà)出)用于樣品的照明。采用一塊反射鏡和透鏡可直接反射光線(xiàn)到彩色的視頻攝像頭上。反射鏡的中心有一個(gè)孔，用于通過(guò)初級(jí)輻射。

　　5)初級(jí)輻射激勵(lì)鍍層和底材發(fā)射 X 射線(xiàn)熒光輻射。這是由于初級(jí)輻射量子碰撞內(nèi)部的某一電子層上的電子所致(光電效應(yīng))。

　　6)由于能量的緣故，產(chǎn)生的空位由外層的一個(gè)電子填充，能量差以 X 射線(xiàn)熒光輻射(Kα，Kβ 輻射，等等)的形式發(fā)出。該能量差是相應(yīng)材料的特征能級(jí)差。

　　7)輻射信號(hào)使用輻射探測(cè)器來(lái)測(cè)量，通常采用充滿(mǎn)氙氣的比例計(jì)數(shù)器。X 射線(xiàn)熒光輻射電離氙原子。釋放出的電子朝著處于計(jì)數(shù)器的高線(xiàn)加速。自由電子的數(shù)目與 X 射線(xiàn)熒光輻射的能量成正比。

　　8)撞擊軸線(xiàn)的電子轉(zhuǎn)換為電脈沖，由放大器放大，脈沖的高度與輻射能量成正比。

　　9)脈沖按照它們產(chǎn)生的能量和頻率(強(qiáng)度)進(jìn)行排序。這樣就可以獲得給定的鍍層/底材組合的X射線(xiàn)熒光輻射頻譜。采用基本參數(shù)方法，軟件可根據(jù)相關(guān)的理論計(jì)算得出鍍層厚度和成分，甚至可以允許無(wú)標(biāo)準(zhǔn)片測(cè)量。

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