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等離子清洗機

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更新時間：2026-08-25 13:21:19瀏覽次數(shù)：1900次

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等離子清洗機
通常等離子清洗技術(shù)對于分子級別的污染物去除效果明顯，通過等離子清洗將會顯著增加物體的表面能，改善浸潤特性和粘合性。

詳細介紹

等離子清洗機原理及特性：

由高能高活性粒子( 電子、離子、自由基、光子、中性粒子) 組成的等離子體是區(qū)別于常見的固體、液體和氣態(tài)之外的第四態(tài)。等離子體中的粒子活性高，很容易和固體表面發(fā)生反應(yīng)。通常等離子清洗技術(shù)對于分子級別的污染物去除效果明顯，通過等離子清洗將會顯著增加物體的表面能，改善浸潤特性和粘合性。

等離子清洗屬于一種高精密的干式清洗方式，原理是在真空狀態(tài)下利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場將氧、氬、氫等工藝氣體激發(fā)成具有高反應(yīng)活性或高能量的離子，通過化學(xué)反應(yīng)或物理作用對工件表面進行處理，實現(xiàn)分子水平的沾污去除（一般厚度為 3 ～ 30nm），提高表面活性。對應(yīng)不同的污染物，應(yīng) 采用不同的清洗工藝，達到的清洗效果。清洗原理見圖 2、圖 3、圖 4 及反應(yīng)式：等離子清洗原理

化學(xué)清洗 : 表面反應(yīng)以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗。

例 1 ：O2+e_→ 2O※+e –

O※+ 有機物→ CO2+H2O （1）

氧等離子體通過化學(xué)反應(yīng)可使非揮發(fā)性有機物變成易揮發(fā)的 H2O 和 CO2，見圖 2。

例 2 ：H2+e_→ 2H※+e –

H※+ 非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬 +H2O （2）

氫等離子體通過化學(xué)反應(yīng)可以去除金屬表面氧化層，清潔金屬表面，見圖 3。

物理清洗：表面反應(yīng)以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗。

例：Ar+e_→ Ar ++2e –

Ar++ 沾污→揮發(fā)性沾污（3）

Ar+在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產(chǎn)生動能，轟擊清洗工件表面，去除微顆粒污染物，同時進行表面能活化，見圖 4。