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閱讀：403發(fā)布時(shí)間：2022-6-3
ASML正式發(fā)布了2021年財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)，除了靚麗的營(yíng)收和凈利潤(rùn)數(shù)據(jù)外，ASML還官宣了新款EUV光刻機(jī)。
據(jù)悉，ASML一次性推出了兩款新型EUV光刻機(jī)，其N(xiāo)A值均是0.55，相比現(xiàn)有型號(hào)的EUV光刻機(jī)，其N(xiāo)A明顯提升，畢竟，老款EUV光刻機(jī)的NA值為0.33。
另外，新款EUV光刻機(jī)采用擁有更高的NA值，就意味著其擁有更高的曝光精度，能夠進(jìn)行更小晶圓的生產(chǎn)制造，關(guān)鍵是效率也大幅度提升，每小時(shí)曝光晶圓200片以上。
而現(xiàn)有型號(hào)的EUV光刻機(jī)，其每小時(shí)的晶圓曝光量為160片左右。
最主要的是，其中一款新型號(hào)的EUV光刻機(jī)已經(jīng)交付給了英特爾，而另外一款也有5套訂單了。
也就是說(shuō)，ASML已經(jīng)具備了出貨更*EUV光刻機(jī)的能力。
對(duì)此，就有外媒表示，2年內(nèi)老款EUV光刻機(jī)可自由出貨。外媒如此肯定，也給出了以下幾點(diǎn)原因。
首先，EUV光刻機(jī)是在2018年開(kāi)始出現(xiàn)，并在2019年開(kāi)始大量交付，而臺(tái)積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
EUV光刻機(jī)出貨后，ASML方面就表示，DUV光刻機(jī)在一般情況下是可以自由出貨的，除了在美生產(chǎn)制造的DUV光刻機(jī)。
2021年ASML就實(shí)現(xiàn)了DUV光刻機(jī)等設(shè)備自由出貨，并直接與ASML簽訂了價(jià)值11億美元的采購(gòu)協(xié)議。
也就是說(shuō)，新一代光刻機(jī)出現(xiàn)后，老款光刻機(jī)很快就實(shí)現(xiàn)了自由出貨，DUV光刻機(jī)就是例子。如今，新款EUV光刻機(jī)已經(jīng)交付，老款也會(huì)在2年內(nèi)自由出貨。
其次，ASML正在加速EUV光刻機(jī)普及。
EUV光刻機(jī)是生產(chǎn)制造7nm以下芯片的必要設(shè)備，再加上，越來(lái)越多的儲(chǔ)存芯片廠商也開(kāi)始用EUV工藝。
于是，ASML明確表示要在2025年實(shí)現(xiàn)EUV光刻機(jī)使用達(dá)到60%。
要知道，目前EUV光刻機(jī)的出貨量不高，2021年僅為42臺(tái)，占ASML全年光刻機(jī)出貨量的1/7。
另外，還有三家企業(yè)可以生產(chǎn)制造光刻機(jī)，這意味著ASML要在2025年實(shí)現(xiàn)了EUV光刻機(jī)的安裝使用率高達(dá)60%，其必然要實(shí)現(xiàn)自由出貨。
數(shù)據(jù)顯示，EUV光刻機(jī)的安裝量應(yīng)該在140臺(tái)，這樣的基數(shù)實(shí)在太少了，要想實(shí)現(xiàn)60%的使用率，自由出貨和提升產(chǎn)能是的。
再加上，中國(guó)市場(chǎng)是巨大的，三星、SK海力士都在此有大量的工廠，這些工廠也是需要EUV光刻機(jī)。
但由于規(guī)則被修改，EUV光刻機(jī)不能出貨安裝到外企中國(guó)分廠，這意味著ASML只有實(shí)現(xiàn)EUV光刻機(jī)自由出貨，才能夠解決問(wèn)題。
最后，壓力讓ASML不得不快速實(shí)現(xiàn)EUV光刻機(jī)自由出貨。
EUV光刻機(jī)原先是生產(chǎn)制造7nm以下芯片的必要設(shè)備，但如今可不再是設(shè)備了。
因?yàn)榧涯?、鎧俠科技等聯(lián)合研發(fā)了全新的NIL工藝，目前已經(jīng)用該工藝量產(chǎn)了15nm的芯片，預(yù)計(jì)在2025年用NIL工藝量產(chǎn)5nm芯片。
另外，NIL不僅能夠降低耗電量，也能夠降低設(shè)備采購(gòu)成本，關(guān)鍵是，佳能、鎧俠等有意在范圍內(nèi)推廣該工藝。
還有就是，臺(tái)積電也明確表示，DUV光刻機(jī)可以量產(chǎn)7nm芯片，也可以量產(chǎn)5nm芯片，只不過(guò)工藝更復(fù)雜一些，成本也高一點(diǎn)。
這兩個(gè)消息讓ASML壓力很大，尤其全新的NIL工藝，一旦在范圍內(nèi)推廣，屆時(shí)EUV光刻機(jī)的市場(chǎng)必然會(huì)縮小。
因?yàn)镹IL工藝相比EUV工藝不僅能節(jié)約的電耗成本，還有EUV光刻機(jī)成本，這兩點(diǎn)就能夠大大降低5nm等芯片的生產(chǎn)制造成本。
為了市場(chǎng)，ASML自然要在NIL工藝之前實(shí)現(xiàn)EUV光刻機(jī)普及，否則，影響就大了。所以，外媒才說(shuō)，ASML官宣新款EUV光刻機(jī)！2年內(nèi)老款EUV光刻機(jī)可自由出貨。
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