青島佳鼎分析儀器有限公司
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閱讀：794發(fā)布時(shí)間：2022-6-3
中國光刻機(jī)和荷蘭光刻機(jī)的差距是全方面的，這里面不僅是系統(tǒng)集成商的差距，也包括各種核心配件上的差距，比如光源、鏡頭、軸承等等一些精密部件。
目前我國能量產(chǎn)的光刻機(jī)是90nm工藝，由上海微電子(簡稱SMEE)生產(chǎn)。這點(diǎn)和荷蘭ASML生產(chǎn)的7nm光刻機(jī)可不是一代二代的差距，*是天壤之別，在整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈中我們就是屬于低端產(chǎn)品，連中端都算不上。
目前整個(gè)光刻機(jī)市場是荷蘭占據(jù)8成的市場，中端主要是日系廠商尼康佳能，剩下我們國產(chǎn)的光刻機(jī)只能用于國內(nèi)一些低端市場(SMEE占了80%的份額)。而這個(gè)低端市場ASML未來也想吃掉，因?yàn)殡S著國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展，已經(jīng)成為二大光刻機(jī)市場，潛力巨大。
當(dāng)然，這些年SMEE研發(fā)工作一直沒停過，差距也再一點(diǎn)點(diǎn)的縮小。早在2018年時(shí)已經(jīng)在驗(yàn)證65nm工藝的光刻機(jī)，從時(shí)間上來說已經(jīng)差不多可以量產(chǎn)了，剩下45nm工藝的光刻機(jī)也在研發(fā)中。
為何我國光刻機(jī)會(huì)有如此差距
那么為什么我國的光刻機(jī)會(huì)和荷蘭ASML出現(xiàn)較大的差距?如果要深究的其實(shí)就兩點(diǎn)，一是歐美西方國家對(duì)我國的，二是國產(chǎn)配件跟不上。
荷蘭ASML光刻機(jī)之所以能做成，最關(guān)鍵的一點(diǎn)就是能在范圍內(nèi)拿到配件，如德國蔡司的鏡頭，美國的光源系統(tǒng)，瑞典的軸承?，F(xiàn)在ASML 7nm光刻機(jī)整體有13個(gè)子系統(tǒng)，其中90%的配件都是向各種制造商采購。ASML拿到這些配件在經(jīng)過自己的精密設(shè)計(jì)和制造將其打造成一臺(tái)的光刻機(jī)。
而SMEE無法像荷蘭ASML一樣實(shí)現(xiàn)采購，根據(jù)1996年歐美簽署的瓦森納協(xié)議，歐美很多高精端儀器或者配件都對(duì)中國禁運(yùn)。這種禁運(yùn)對(duì)光刻機(jī)造成了很致命的打擊，其實(shí)很多人可能不知道，SMEE早在2008年就研發(fā)出來了90nm前道光刻，但是由于禁運(yùn)一直無法正式商用，最后不得不重新轉(zhuǎn)向去研發(fā)后道光刻機(jī)。
由于國外對(duì)中國進(jìn)行禁運(yùn)，我國現(xiàn)有光刻機(jī)不得不使用國產(chǎn)核心組件，而這也是與荷蘭ASML差距較大的原因之一，很多的核心組件都無法和國外廠商的配件相比。目前國內(nèi)這塊的差距是移動(dòng)精度控制，其次是光學(xué)系統(tǒng)，比如激光光源等。
當(dāng)然，在光刻機(jī)核心子系統(tǒng)上我國也是在努力追趕，比如雙工件臺(tái)有清華大學(xué)承辦研發(fā)(見下圖)華卓精科進(jìn)行產(chǎn)業(yè)化，長春光機(jī)所承辦研制物鏡，科益宏源在光源方面實(shí)現(xiàn)了ArF準(zhǔn)分子激光光刻技術(shù)，以上這些廠商的努力將有助于最后SMEE集成制造出更*的光刻機(jī)。
綜合來說，荷蘭ASML能打造出的光刻機(jī)是因?yàn)槠浔澈笳麄€(gè)發(fā)達(dá)的歐美產(chǎn)業(yè)鏈，是西方資本以及整個(gè)半導(dǎo)體工業(yè)合力堆砌出來的企業(yè)，沒有這些企業(yè)ASML也是白搭。而我國未來想要能追趕上荷蘭ASML，制造出*的光刻機(jī)，不僅需要各種核心組件要有新的技術(shù)突破，更需要整個(gè)半導(dǎo)體上下游產(chǎn)業(yè)一起努力。
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