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閱讀:438發(fā)布時間:2022-6-3
ASML的EUV光刻機研發(fā)制造出來后,其就不能自由出貨,原因是《瓦爾森協(xié)議》的緣故,的設(shè)備不能自由出貨。
相比之下,DUV光刻機并非ASML的設(shè)備,所以,DUV光刻機一直都能自由出貨,ASML也曾表示,DUV光刻機出貨一般情況下是不需要許可的。
從ASML方面的表態(tài)就能夠看出來,只要EUV光刻機不再是的設(shè)備,其就可能自由出貨。
ASML傳來新消息,EUV光刻機自由出貨不遠了?
近日,ASML正式對外公布了新財報,其中有兩個數(shù)據(jù)很關(guān)鍵,一個孔徑值為0.33 和0.55的NA EUV光刻機獲得大量訂單;
另外一個NA EUV光刻機已經(jīng)向英特爾等出貨。
據(jù)了解,NA EUV光刻機是EUV光刻機升級版,其采用更高的曝光精度,可以將芯片縮小至2nm。同時,生產(chǎn)效率更高,每小時曝光晶圓超170片以上。
精度和效率提升的同時,NA EUV光刻機的售價也在上漲,單臺價格超過3億美元,盡管如此,英特爾、三星以及臺積電等廠商仍積極下單購買。
也就是說,更*的NA EUV光刻機已經(jīng)出貨了,那么,EUV光刻機自由出貨不遠了?
根據(jù)ASML的表態(tài)來看,新一代光刻機上線后,上一代EUV光刻機也將實現(xiàn)自由出貨。
但就目前而言,EUV光刻機要想實現(xiàn)自由出貨,還需要以下幾個條件中的任意一個即可。
首先,ASML拿到許可。
雖然NA EUV光刻機已經(jīng)出貨,EUV光刻機也不再是的光刻機,但仍是生產(chǎn)制造7nm以下芯片的必要設(shè)備。
消息稱,美要在10nm以下芯片制造技術(shù)方面進行,讓*的制程芯片技術(shù)僅掌握在少數(shù)企業(yè)手中。
這就意味著,雖然EUV光刻機不再是的設(shè)備,但在沒有許可的情況下,ASML想實現(xiàn)自由出貨還是比較難的。
其次,類似EUV光刻機的設(shè)備出現(xiàn)。
據(jù)悉,國內(nèi)廠商突破的技術(shù),美很快會允許其它廠商自由出貨,就像華為自研了汽車芯片等產(chǎn)品后,美就批準(zhǔn)了一項價值超1億美元的汽車芯片等出貨許可。
也就是說,ASML即便是沒有拿到EUV光刻機的出貨許可,只要國內(nèi)廠商推出了類似的產(chǎn)品或者世界上有其它國家推出了類似的產(chǎn)品,EUV光刻機也將實現(xiàn)自由出貨。
就目前來看,這一天已經(jīng)不遠了,因為俄正在研發(fā)*的X射線光刻機,佳能、尼康等老牌光刻機廠商正在聯(lián)合搞突破。
還有就是,國內(nèi)廠商在*的光源技術(shù)、透膜技術(shù)等方面也取得了很大突破,為國產(chǎn)*光刻機研發(fā)制造打下了基礎(chǔ)。
最后,新技術(shù)的出現(xiàn)。
EUV光刻機主要是用于生產(chǎn)制造7nm芯片以下,一旦有新技術(shù)出現(xiàn),EUV光刻機必然會自由出貨。
據(jù)悉,NIL工藝已經(jīng)推出,2025年即可用于生產(chǎn)制造5nm芯片;光電芯片也被看作是硅芯片的替代者,荷蘭已經(jīng)計劃投資11億歐元研發(fā)該技術(shù)。
可以說,相應(yīng)替代技術(shù)的出現(xiàn),必然也加速實現(xiàn)EUV光刻機自由出貨。
ASML本質(zhì)上是想讓EUV光刻機盡快自由出貨的
雖然EUV光刻機還無法自由出貨,,但ASML本質(zhì)上是想讓EUV光刻機盡快實現(xiàn)自由出貨。
因為對ASML而言,實現(xiàn)EUV光刻機是百利而無一害的,不僅能夠快速增加營收,實現(xiàn)300億歐元的目標(biāo),還能拿下更多的市場,從而保證在這一領(lǐng)域內(nèi)實現(xiàn)。
相反,ASML不能自由出貨,只會加速其它廠商自研進度,或者開辟新的道路,所以ASML一直都在加大產(chǎn)能,并表達出反對限制出貨的不滿情緒。
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