青島佳鼎分析儀器有限公司
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閱讀：410發(fā)布時間：2022-6-3
或許對于大部分朋友來說，對ASML的了解，只是知道ASML可以生產(chǎn)制造EUV光刻機，但是目前還無法向我們供貨，不過在DUV光刻機上，供貨還是沒有問題的。
而對于DUV光刻機，可能大家了解的就不是很多了，實際上，DUV光刻機經(jīng)過了三次比較大幅度的發(fā)展，最終沒有辦法才走向了發(fā)展EUV光刻機的道路。
對于ASML來說，當(dāng)時研發(fā)EUV光刻機，也是捏了一把汗，因為如果研發(fā)失敗，ASML很有可能就失去了在光刻機市場的地位。
雖然ASML的DUV光刻機可以出貨，但是有分析師表示，ASML到底還是"留了一手“。
這里我們就有必要對DUV光刻機進行一些簡單的介紹，大致上DUV光刻機分為三個類型，分別是KRF、ARF和ARFi三種，對應(yīng)的波長分別是248納米、193納米和134納米。
實際上ARF和ARFi屬于同一光源，只不過ARFi加入了浸沒系統(tǒng)，所以最終光刻機的等效波長，經(jīng)過超凈水的折射，變成了134納米，因此這類光刻機也被稱為濕法光刻機，ARF就被稱之為干法光刻機。
目前我們的國產(chǎn)光刻機分辨率上已經(jīng)做到了90納米，可以生產(chǎn)65納米的芯片，屬于ARF光刻機。
但是近些年來我們看到，很多我們國內(nèi)的廠商，依然在選擇ASML的ARF光刻機，其中有很多廠商，只是購買光刻機來測試自家的產(chǎn)品，我們國產(chǎn)光刻機其實也可以滿足要求。
而這里就是分析師所說的ASML到底還是"留了一手“。
雖然同樣都是可以滿足測試要求的ARF光刻機，可以支持的工藝水平也是差不多的，但是ASML在此之上，還推出了其他的升級服務(wù)。
具體來說，ASML開發(fā)了一種叫作"浸入式轉(zhuǎn)換“的技術(shù)，其可以將客戶購買的"干法“光刻機升級到"濕法"光刻機。
這樣話，客戶就不用購買新的“濕法"光刻機了，不得不說，這項轉(zhuǎn)換技術(shù)很有針對性。
因為上面我們也提到了，我們國產(chǎn)光刻機已經(jīng)完成“干法"技術(shù)，正在向著“濕法"光刻機推進，而ASML此舉，無疑讓我們國產(chǎn)“干法"DUV光刻機受到冷落。
不得不說，ASML利用EUV光刻機在市場發(fā)起“進攻"，但是在DUV光刻機市場也不忘“防守"，ASML到底“留了一手"。
不過這種情況不會持續(xù)太久了，因為根據(jù)之前的媒體報道，我國光刻機曝光系統(tǒng)供應(yīng)鏈企業(yè)國望光學(xué)的工廠即將開建，屆時將可以提供滿足“濕法"DUV光刻機所需要的物鏡系統(tǒng)。
這就意味著，我們國產(chǎn)DUV光刻機也將進入“濕法"階段，ASML的最后屏障將只剩下EUV光刻機。
不得不說，ASML“留了一手"也不奇怪，這就像賽跑，如果要保證自己一直，除了自己要跑得快，還要想辦法讓對手跑得慢。
我們在追趕的過程中，難免要經(jīng)歷一些風(fēng)雨，不可能是一帆風(fēng)順，但是風(fēng)雨過后是彩虹，ASML的“小伎倆"是無法阻止我們的“大目標(biāo)"的，我們拭目以待。
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