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碳化硅晶片為什么存在C面和硅面?

閱讀:288發(fā)布時(shí)間:2024-7-21

        SiC是一種Si元素和C元素以1:1比例形成的二元化合物,即百分之五十的硅(Si)和百分之五十的碳(C),其基本結(jié)構(gòu)單元為 Si-C 四面體。 

        舉個(gè)例子,Si原子直徑大,相當(dāng)于蘋(píng)果,C原子直徑小,相當(dāng)于橘子,把數(shù)量相等的橘子和蘋(píng)果堆在一起就成了SiC晶體。

        SiC 是一種二元化合物,其中 Si-Si 鍵原子間距為3.89 ?,這個(gè)間距如何理解呢?目前市面上逼的光刻機(jī)光刻精度3nm,就是30?的距離,光刻精度是原子距離的8倍。

        Si-Si鍵能大小為 310 kJ/mol,可以理解鍵能是把這兩個(gè)原子拉開(kāi)的力度,鍵能越大,需要拉開(kāi)的力越大。

        Si-C 鍵原子間距為 1.89 ?, 鍵能大小為 447 kJ/mol。

        從鍵能上可以看出相較于傳統(tǒng)的硅基半導(dǎo)體材料,碳化硅基半導(dǎo)體材料化學(xué)性質(zhì)更加穩(wěn)定。

        從圖中看出任意一個(gè)C原子都與最鄰近的四個(gè)Si原子相連,反之任意一個(gè)Si原子都與最鄰近的四個(gè)C原子相鍵連。

        SiC 晶體結(jié)構(gòu)還可以采用層狀結(jié)構(gòu)方法描述,如圖所示,晶體中的若干C原子均占據(jù)在同一平面上的六方格位點(diǎn)中,形成一個(gè)C原子密排層,而Si原子也占據(jù)在同一平面上的六方格位點(diǎn)中并形成一個(gè)Si原子密排層。

        C原子密排層中的每一個(gè)C都與最鄰近的Si相連接,反之Si原子密排層也相同。每?jī)蓚€(gè)相鄰的 C、Si原子密排層構(gòu)成一個(gè)碳硅雙原子層。

        SiC晶體的排列組合形式十分豐富,目前已發(fā)現(xiàn)的SiC晶型達(dá) 200 多個(gè)。

        這個(gè)類(lèi)似俄羅斯方塊,雖然最小單元方塊都一樣,但方塊組合在一起后,就拼成出了不同形態(tài)。

        SiC的空間結(jié)構(gòu)比俄羅斯方塊稍微復(fù)雜點(diǎn),它的最小單元從小方格變成小四面體,由C原子和Si原子組成的四面體。

        為了區(qū)分 SiC 的不同晶型,目前主要采用 Ramsdell 方法進(jìn)行標(biāo)記。該方法采用字母與數(shù)字相結(jié)合的方法來(lái)表示SiC 的不同晶型。

        其中字母放在后面,用來(lái)表示晶體的晶胞類(lèi)型。C 代表立方晶型(英文Cubic首字母),H 代表六方晶型(英文Hexagonal首字母),R 代表菱形晶型(英文Rhombus首字母)。數(shù)字放在前面,用來(lái)表示基本重復(fù)單元的Si-C雙原子層的層數(shù)。

        除2H-SiC與3C-SiC外,其它晶型均可視為閃鋅礦與纖鋅礦結(jié)構(gòu)的混合體,也就是密排六方結(jié)構(gòu)。


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