詳細(xì)摘要： NLD-3500（M）原子層沉積設(shè)備這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：上海市更新時(shí)間：2020-03-29 在線留言那諾中國(guó)有限公司
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那諾中國(guó)有限公司
詳細(xì)摘要： NLD-3500（M）原子層沉積設(shè)備這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。
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詳細(xì)摘要： NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)MFC.帶有*氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：上海市更新時(shí)間：2020-03-26 在線留言
詳細(xì)摘要： PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)無論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋zui廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：上海市更新時(shí)間：2020-03-26 在線留言
詳細(xì)摘要： 全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：上海市更新時(shí)間：2020-03-26 在線留言
詳細(xì)摘要： NLD-3500（A）原子層沉積設(shè)備同時(shí)帶有N2或者Ar作為運(yùn)載氣體的快脈沖加熱傳輸閥。NLD-3500（A）選配：NLD-3500（A）系統(tǒng)的選配項(xiàng)包含，IC...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：上海市更新時(shí)間：2020-03-26 在線留言
詳細(xì)摘要： NLD-4000（ICPM）PEALD系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域包含半導(dǎo)體、光伏、MEMS等。NLD-4000（ICPM）系統(tǒng)提供12"的鋁質(zhì)反應(yīng)腔體，帶有加熱腔壁和氣動(dòng)升降...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：上海市更新時(shí)間：2020-03-26 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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