在金相試樣制備和光譜分析應用中，試樣的磨平是金相制樣和光譜分析前不可少的重要工序。GPM-2-300光譜磨平機采用噴塑工藝制作，雙盤獨立控制，磨盤無級調(diào)速，*罩殼設計可有效保障磨樣安全，機箱內(nèi)裝有吸塵裝置可避免環(huán)境污染，該機啟動平穩(wěn)、傳動功率大、噪音低，可滿足不同材料的制備要求，提高試樣的磨拋質(zhì)量和制備效率，是一種非常理想和功能*的金相制樣制備。

產(chǎn)品亮點：
1. 無級調(diào)速控制
2. 下方配有吸塵裝置，可吸走磨削物
3. 安全鎖扣，1/4磨面，保護操作員

GPM-2-300光譜磨平機技術參數(shù)：