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液體離子濃度檢測(cè)----滴定法與X射線熒光光譜儀檢測(cè)的比較

閱讀:187發(fā)布時(shí)間:2025-10-27

一.實(shí)驗(yàn)?zāi)康?/strong>

1、用滴定法測(cè)定鍍Ni、鍍Cu溶液中主鹽金屬離子的含量;

2、用XRF熒光光譜儀測(cè)定鍍Ni、鍍Cu溶液中主鹽金屬離子的含量;

3、對(duì)兩種方法測(cè)定的主鹽離子含量進(jìn)行比較,比較兩者誤差,以判定XRF儀器準(zhǔn)確性。

4、對(duì)鍍液進(jìn)行加標(biāo),分別用兩種方法測(cè)定其加標(biāo)回收率并進(jìn)行對(duì)比。



二.實(shí)驗(yàn)方法

(1)鍍液配制:

電鍍Ni溶液:選擇普通鍍鎳液配方。六水合硫酸鎳預(yù)先烘干至無(wú)水硫酸鎳,稱取硫酸鎳(NiSO4) 80g,氯化鈉(NaCl) 4g,硼酸(H3BO3) 33g,(Na2SO4) 30g,十二烷基*(C12H25SO4Na) 0.05g。分別用熱水溶解,混合在一個(gè)容器中,加水稀釋到所需體積,靜置澄清,用虹吸法或過(guò)濾法把鍍液引入鍍槽,再加入已經(jīng)溶解的十二烷基*溶液;攪拌均勻,配制成1000mL鍍液取樣分析。

電鍍Cu溶液:選擇普通鍍銅液配方。五水合硫酸銅預(yù)先烘干至無(wú)水硫酸銅,稱取硫酸銅(CuSO4) 50g,先將稱取的硫酸銅溶解在配制體積三分之二的溫水中,當(dāng)硫酸銅溶解溶液和冷卻后,在不斷攪拌下慢慢地加入硫酸(H2SO4) 40mL(加入硫酸時(shí)為放熱反應(yīng)),配制成1000mL的溶液,靜置溶液并進(jìn)行過(guò)濾,對(duì)鍍液進(jìn)行取樣分析。


(2)EDTA標(biāo)準(zhǔn)溶液的配制與標(biāo)定:

0.05M EDTA溶液的配制:稱取20g乙二胺四乙酸二鈉溶于1L蒸餾水中,搖勻。

EDTA標(biāo)準(zhǔn)溶液的標(biāo)定:稱取于800°C灼燒至恒重的基準(zhǔn)氧化鋅1g (稱準(zhǔn)至0.2mg),用少許蒸餾水濕潤(rùn),加鹽酸溶液(1:1)至樣品溶解,移入250ml容量瓶中,稀釋至刻度,搖勻。取上述溶液20.00ml,加80m|水,用10%氨水中和至PH為7~8,加5ml氨-氯化銨緩沖溶液(PH=10),加5滴0.5%鉻黑T指示劑,用0.05M EDTA溶液滴定至溶液由紫色變?yōu)榧兲m色。


(3)溶液分析:

滴定法(TM)

測(cè)定Ni2+含量時(shí)用移液管吸取溶液10毫升,置于100毫升容量瓶中,加水至刻度,搖勻,吸取稀釋液10毫升置于250毫升錐形瓶中,加氟化鉀1克,搖晃至氟化鉀溶解,再加水30毫升,此時(shí)溶液應(yīng)呈渾濁,有微小的氟化鎂沉淀生成,加pH=10緩沖液10毫升及紫脲酸銨指示劑少量,用0.05M EDTA溶液滴定由黃色變?yōu)樽霞t色為終點(diǎn)。滴定結(jié)果記錄于表1-1中。

測(cè)定Cu2+含量時(shí)用移液管吸取鍍液2毫升于500毫升錐形瓶中,滴加*8滴,加水50毫升、煮沸一下,冷卻,加水150毫升,氟化銨1克及三乙醇胺6滴,加氨水至溶液呈淡藍(lán)色,加PAN 10~12滴,用0.050M EDTA溶液滴定至綠色為終點(diǎn)。滴定結(jié)果記錄于表1-2中。


熒光光譜法(XRF)

p1cn.jpg

本實(shí)驗(yàn)基于西凡儀器P1鍍層測(cè)厚儀,該儀器可以支持鍍層厚度檢測(cè)、成分分析以及離子濃度分析。該設(shè)備采用智能基本參數(shù)法算法,并使用定制的液體測(cè)試杯。

每組鍍液另取部分樣品,借助于XRF熒光光譜儀對(duì)其溶液中的離子進(jìn)行測(cè)定,每組樣品分別測(cè)定三次,鍍Ni液和鍍Cu液的測(cè)定結(jié)果分別記錄于表1-3和表1-4中。


表1-1 酸性鍍Ni液加標(biāo)前Ni2+滴定數(shù)據(jù)

1.jpg


表1-2 酸性鍍Cu液加標(biāo)前Cu2+滴定數(shù)據(jù)

2.jpg


表1-3 酸性鍍Ni液加標(biāo)前 XRF測(cè)定數(shù)據(jù)

3.jpg


表1-4 酸性鍍Cu液加標(biāo)前 XRF測(cè)定數(shù)據(jù)

4.jpg



(4)加標(biāo)回收:

加標(biāo)前后鍍液中硫酸鎳濃度為100g/L和115g/L,硫酸鎳的加標(biāo)量為15g/L,相當(dāng)于添加了5.691g/L的Ni2+。再次用0.05M EDTA溶液滴定,結(jié)果如表1-5所示。XRF測(cè)試結(jié)果如表1-6所示。


表1-5 酸性鍍Ni液加標(biāo)后Ni2+滴定

5.jpg


表1-6 酸性鍍Ni液加標(biāo)后 XRF測(cè)定數(shù)據(jù)

6.jpg


加標(biāo)前后鍍液中硫酸銅濃度為50g/L和65g/L,硫酸銅的加標(biāo)量為15g/L,相當(dāng)于添加了5.971g/L的Cu2+。再次用0.05M EDTA溶液滴定,結(jié)果如表1-7所示。XRF測(cè)試結(jié)果如表1-8所示。


表1-7 酸性鍍Cu液加標(biāo)后Cu2+滴定

7.jpg


表1-8 酸性鍍Cu液加標(biāo)后 XRF測(cè)定數(shù)據(jù)

8.jpg




三.?dāng)?shù)據(jù)計(jì)算

(1)滴定法測(cè)定離子含量
鎳離子含量的計(jì)算式:

公式1.jpg


式中  M——標(biāo)準(zhǔn)EDTA溶液的克分子濃度;
 V——耗用標(biāo)準(zhǔn)EDTA溶液的毫升數(shù)。
銅離子含量的計(jì)算式:

公式2.jpg


式中  N——標(biāo)準(zhǔn)EDTA溶液的當(dāng)量濃度;
 V——耗用標(biāo)準(zhǔn)EDTA溶液的毫升數(shù)。


(2)XRF與滴定法的測(cè)定誤差

公式3.jpg


(3)加標(biāo)回收率

公式4.jpg


所有計(jì)算數(shù)據(jù)統(tǒng)一記錄在數(shù)據(jù)卡的表2-1和表2-2中。

2-1.jpg


本實(shí)驗(yàn)電鍍鎳溶液選擇傳統(tǒng)酸性鍍鎳液(主要成分為硫酸鎳和硼酸),加標(biāo)前后鍍液中硫酸鎳(經(jīng)烘干,不含結(jié)晶水)含量為100g/L和115g/L。硫酸鎳的加標(biāo)量為15g/L,相當(dāng)于添加了5.691g/L的Ni2+。

Ni2+滴定所采用的標(biāo)準(zhǔn)溶液為0.050M的EDTA溶液,經(jīng)標(biāo)定后測(cè)得其實(shí)際量濃度為0.0505mol/L。

滴定法測(cè)定鎳離子含量的計(jì)算式:

公式5.jpg


式中  M——標(biāo)準(zhǔn)EDTA溶液的克分子濃度;
 V——耗用標(biāo)準(zhǔn)EDTA溶液的毫升數(shù)。

XRF儀器測(cè)定與滴定法測(cè)定誤差的計(jì)算式;

公式6.jpg


加標(biāo)回收率的計(jì)算式:

公式7.jpg


2-2.jpg


本實(shí)驗(yàn)電鍍銅溶液選擇傳統(tǒng)酸性硫酸銅液(主要成分為硫酸銅和硫酸),加標(biāo)前后鍍液中硫酸銅(經(jīng)烘干,不含結(jié)晶水)含量為50 g/L和65 g/L。硫酸銅的加標(biāo)量為15 g/L,相當(dāng)于添加了5.971 g/L的Cu2+。Cu2+滴定所采用的標(biāo)準(zhǔn)溶液為0.050M的EDTA溶液,經(jīng)標(biāo)定后測(cè)得其實(shí)際量濃度為0.0488mol/L。

滴定法測(cè)銅鎳離子含量的計(jì)算式:

公式8.jpg


式中  N——標(biāo)準(zhǔn)EDTA溶液的當(dāng)量濃度;
 V——耗用標(biāo)準(zhǔn)EDTA溶液的毫升數(shù)。
XRF儀器測(cè)定與滴定法測(cè)定誤差的計(jì)算式;

公式9.jpg


加標(biāo)回收率的計(jì)算式:

公式10.jpg


四.實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析

如表2-1和表2-2中結(jié)果所示:

(1)滴定法與XRF的測(cè)試結(jié)果對(duì)比,兩種方法的誤差(Error)在0.29~2.09%的范圍內(nèi)。

(2)XRF較滴定法計(jì)算所得到的加標(biāo)回收率(Recovery of adding standard)更接近于99%,主要是因?yàn)橛捎诘味ǚǖ淖x數(shù)誤差、實(shí)驗(yàn)操作誤差和對(duì)滴定終點(diǎn)判斷的個(gè)體誤差,使得滴定法測(cè)定的效果不如借助于熒光光譜儀。

(3)由于藥品未烘干或烘干后容易吸收水分,使得測(cè)定的離子含量{CM2+(before)、CM2+(after)}低于理論值,同時(shí)作為理論計(jì)算值的CM2+(adding)不變而導(dǎo)致計(jì)算的加標(biāo)回收率偏低(計(jì)算結(jié)果不高于99%)。同時(shí)由于滴定法和XRF采用的都是同一份樣品,這一因素不會(huì)影響兩種方法之間的比較。

根據(jù)數(shù)據(jù)卡中表2-1和表2-2的結(jié)果,繪制的對(duì)比分析圖如圖1所示。


end.jpg

圖1 加標(biāo)前后滴定法與XRF測(cè)試結(jié)果對(duì)比圖
(a.電鍍Ni溶液,b.電鍍Cu溶液)


圖1中,均值用來(lái)表示不同方法測(cè)定的離子含量,標(biāo)準(zhǔn)差表示各數(shù)據(jù)樣本的測(cè)試穩(wěn)定程度,變異系數(shù)(=標(biāo)準(zhǔn)差/均值)表示基于樣本本體量的測(cè)試誤差程度。


如圖1所示,可直觀的看出:借助于滴定法測(cè)定離子含量,測(cè)試結(jié)果的波動(dòng)比XRF法明顯(即滴定法的標(biāo)準(zhǔn)差較大),這是由于存在溶液配制的差異、測(cè)量誤差和操作人員的個(gè)體差異等,同時(shí)XRF法操作更簡(jiǎn)單,使得滴定法測(cè)定離子含量效果不如XRF。


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