問(wèn):這款設(shè)備在耗材和排污上有什么優(yōu)勢(shì)?
答:試劑、廢液消耗量都很小,還采用廢液廢水分離設(shè)計(jì),能大幅降低長(zhǎng)期使用成本。
問(wèn):設(shè)備的光學(xué)檢測(cè)組件表現(xiàn)如何?
答:抗干擾能力強(qiáng),檢測(cè)精度高,即便環(huán)境出現(xiàn)小幅變化,也不會(huì)影響最終數(shù)據(jù)。
問(wèn):設(shè)備一共有幾種自動(dòng)監(jiān)測(cè)模式?
答:包含單次、連續(xù)、間隔、整點(diǎn)四種模式,可根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)需求自由選擇。

| 參數(shù)名稱(chēng) | 技術(shù)指標(biāo) |
|---|---|
| 單次試劑消耗量 | <3mL |
| 單次廢液量 | <6mL |
| 檢出限 | ≤0.01mg/L |
| 測(cè)量重復(fù)性 | ≤5.0% |
| 測(cè)量模式 | 四種自動(dòng)化測(cè)量模式 |
| 系統(tǒng)升級(jí)方式 | U 盤(pán)、遠(yuǎn)程串口雙模式 |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)