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更新時間:2022-04-05 12:02:46瀏覽次數(shù):893次
聯(lián)系我時,請告知來自 儀表網(wǎng)無掩膜光刻直寫設(shè)備----MLA100

工作方式:無掩膜直寫
配置高精度對準(zhǔn)攝像機,套刻精度達1um以下
接受襯底尺寸:6”x6”
直寫面積:125mm×125mm;
光刻膠曝光灰度:128階
最小線寬:1um;
制版直寫速度在50x50mm下于50分鐘完成,在
100x100mm下于200分鐘完成。
線寬均勻度<300nm
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