TC WAFER晶圓測(cè)溫系統(tǒng) 光刻晶圓溫度測(cè)量系統(tǒng)
TC為熱電偶的簡(jiǎn)稱， TC WAFER則是直接鑲嵌于晶圓表面的溫度傳感器，可以實(shí)現(xiàn)晶圓表面溫度的實(shí)時(shí)測(cè)量。借助于放置在晶圓表面特定位置之溫度傳感器，可獲得這些特定位置的真實(shí)溫度測(cè)量值以及整天晶圓溫度分布；同時(shí)，也可利用此傳感器來(lái)持續(xù)監(jiān)控在熱處理工程中晶圓暫態(tài)溫度變化，例如：升溫，降溫過(guò)程及延遲周期等?。囟鹊木鶆蚺c否，良率）
半導(dǎo)體晶圓溫度檢測(cè)的重要性
在半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中，晶圓溫度是一個(gè)至關(guān)重要的參數(shù)。不同的工藝步驟對(duì)于溫度有不同的要求，過(guò)高或者過(guò)低的溫度都會(huì)對(duì)半導(dǎo)體器件的性能產(chǎn)生負(fù)面影響。因此，準(zhǔn)確監(jiān)測(cè)和控制晶圓的溫度是保證半導(dǎo)體產(chǎn)品質(zhì)量和產(chǎn)能的關(guān)鍵。
TC WAFER晶圓測(cè)溫系統(tǒng)優(yōu)勢(shì)
它可以實(shí)現(xiàn)非接觸式測(cè)溫，不需要直接接觸晶圓表面，避免了污染和破壞的風(fēng)險(xiǎn)。其次，TC Wafter晶圓測(cè)溫具有較高的測(cè)量精度和響應(yīng)速度，能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)薄膜沉積過(guò)程中微小溫度變化的準(zhǔn)確監(jiān)測(cè)。最后，TC Wafter晶圓測(cè)溫技術(shù)具有良好的重復(fù)性和穩(wěn)定性，能夠長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行。
產(chǎn)品特點(diǎn)
半導(dǎo)體制造廠 Fab，PVD/CVD 部門、RTP 部門等使用
傳感器可以定制
高精度多通道數(shù)據(jù)采集儀
優(yōu)異的軟件功能，方便數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)、趨勢(shì)繪圖和數(shù)據(jù)導(dǎo)出
TC WAFER晶圓測(cè)溫系統(tǒng) 光刻晶圓溫度測(cè)量系統(tǒng)
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