影響等離子表面處理儀處理效果的工藝參數(shù)有很多處理。處理主要處理包括，工藝氣體流量，射頻功率，溫度，處理時(shí)間和真空壓力值處理。
(1) 功率：等離子體的密度和能量與射頻功率成正比關(guān)系，所以在處理時(shí)應(yīng)該增大處理功率從而提高處理的程度以及處理的效率，但當(dāng)功率過大，離子溫度會(huì)上升，在高溫條件下金屬基片或其他易被氧化的物質(zhì)會(huì)被氧化從而被破壞，另外不耐高溫零件例如塑料等也會(huì)損壞，因此在處理之前可以借助模擬合理選擇需要的功率，既要滿足經(jīng)濟(jì)性要求又要保證處理效果以及處理的效率。
(2) 時(shí)間：通常在保證處理效果的同時(shí)需要的時(shí)間越少越好以提高處理的效率，但所用時(shí)間是與各個(gè)參數(shù)之間相互關(guān)聯(lián)的。一般來說，功率越大，所需要處理的時(shí)間就會(huì)越短，但相應(yīng)的功耗也會(huì)越大，功率的增大會(huì)使反應(yīng)腔體與零件的溫度升高，同時(shí)也會(huì)造成其他的多種問題，例如零件被破壞、發(fā)生刻蝕等。因此需要不斷摸索處理時(shí)間、功率、壓力以及氣體種類和配比的關(guān)系選擇一個(gè)的處理工藝。
(3) 溫度：在等離子處理中，工件溫度會(huì)在離子的轟擊作用下變高，所以工件的溫度會(huì)受到射頻功率和處理時(shí)間的影響。根據(jù)國內(nèi)外研究表明射頻頻率與溫度成反比；與射頻功率成正比；時(shí)間越長溫度越高。對(duì)于不同材料，溫度有著不同要求，金屬件一般無特殊要求但要注意防止金屬氧化，非金屬如塑料等溫度要低防止變形。
(4) 壓強(qiáng)：真空腔體內(nèi)的壓強(qiáng)在設(shè)備運(yùn)行的過程中主要受漏氣率，充氣及抽氣速度影響。針對(duì)不同的材料以及需要去除的污染物不同，所需壓強(qiáng)也是不同的。當(dāng)充入氬氣、氮?dú)獾确欠磻?yīng)性稀有氣體時(shí)，此時(shí)的處理主要靠離子的物理轟擊作用，此時(shí)可以通過增大抽速或者減小充氣速度，來保證真空室在較低的壓力，壓強(qiáng)低可以保證離子具有較高的能量轟擊到基片表面以增強(qiáng)處理效果；但是工作壓力不能過低，當(dāng)壓力太低時(shí)，離子濃度變低沒有足夠的離子轟擊器件表面，也會(huì)影響處理效果。當(dāng)以化學(xué)處理為主時(shí)，要適當(dāng)提高處理時(shí)的工作壓力此時(shí)應(yīng)該是通過增大充氣流量實(shí)施以增大反應(yīng)腔體內(nèi)的反應(yīng)氣體濃度，使較多的離子參與化學(xué)反應(yīng)以保證處理的效果。
在等離子處理時(shí)，影響處理工藝的參數(shù)中，真空處理壓力值由倉體本身焊接密封性等決定，選擇合適的處理真空泵達(dá)到的真空壓力值一般已成為定值，工藝氣處理體選擇處理、處理工藝氣體流量大小處理、處理射頻功率處理、處理處理時(shí)間等都處理可以根據(jù)工藝要求在等離子處理設(shè)備屏幕上很簡便處理地調(diào)節(jié)數(shù)值，達(dá)到合理的匹配，獲得較好的處理效果處理。
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