深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
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更新時(shí)間:2022-08-01 10:21:22瀏覽次數(shù):135次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 儀表網(wǎng)M-HP 200熱板用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑為8英寸的晶圓片或6英寸 x6英寸的襯底。內(nèi)置模塊可輕松用于濕式工作臺(tái)。工藝參數(shù)(溫度,加熱時(shí)間)可以隨時(shí)更改。 熱板溫度可在20C和250C之間調(diào)節(jié)??稍?到999秒之間設(shè)置處理時(shí)間。
M-HP 200熱板用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑為8英寸的晶圓片或6英寸 x6英寸的襯底。內(nèi)置模塊可輕松用于濕式工作臺(tái)。工藝參數(shù)(溫度,加熱時(shí)間)可以隨時(shí)更改。 熱板溫度可在20°C和250C之間調(diào)節(jié)??稍?span style="font-family: Times New Roman;">1到999秒之間設(shè)置處理時(shí)間。
產(chǎn)品參數(shù):
? 型號(hào):M-HP 200 Hotplate熱板
? 處理尺寸:直徑8英寸晶圓片或6 英寸x6英寸基板
? 溫度范圍:20°C至250°C可調(diào)
? 功率:600瓦
? 加熱時(shí)間:從1到9999秒
? 熱板表面安全蓋材質(zhì):不銹鋼
? 不帶蓋的熱板尺寸:約350mm x 350mm x 200mm
? 控制器的尺寸:約135mm x 145mm x 95mm
? 臺(tái)式柜的尺寸:約 460mm x 360mm x 325mm
? 重量:約200磅
主營(yíng)產(chǎn)品:
Laurell勻膠機(jī)
Harrick等離子清洗機(jī)
Thetametrisis膜厚儀
Microxact探針臺(tái)
ALD原子層沉積系統(tǒng)
TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻機(jī)
Novascan紫外臭氧清洗機(jī)
Nilt納米壓印機(jī)
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板
Annealsys高溫退火爐
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)
Wabash/Carver自動(dòng)壓片機(jī)
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商 鋪:深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司 http://m.liuyangwu.com/st140769/
主營(yíng)產(chǎn)品:勻膠機(jī) 清洗機(jī) 電化學(xué)工作站 分光光度計(jì) X射線衍射儀
移動(dòng)端:深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司手機(jī)站
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