深圳市科時達(dá)電子科技有限公司
深圳市科時達(dá)電子科技有限公司
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地深圳市
聯(lián)系方式：林經(jīng)理查看聯(lián)系方式
更新時間：2022-08-01 10:22:35瀏覽次數(shù)：223次
聯(lián)系我時，請告知來自 儀表網(wǎng)勻膠顯影機(英文名：Developing) 產(chǎn)地：美國一、產(chǎn)品概述： 650型勻膠顯影機適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面顯影。
勻膠顯影機(英文名：Developing)
產(chǎn)地：美國
一、產(chǎn)品概述：
650型勻膠顯影機適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般勻膠顯影機由動力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部分組成。
二、勻膠顯影機工作原理：
顯影系統(tǒng)具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應(yīng)用的要求重復(fù)進(jìn)行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮氣）等最后的處理步驟。采用此序貫閥門技術(shù)的晶圓片和管道在*干燥的環(huán)境中開通和關(guān)閉處理過程。隔離和獨立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內(nèi)調(diào)節(jié)。勻膠顯影機還有可選擇的動態(tài)線性或徑向滴膠的特性。
三、勻膠顯影機主要性能指標(biāo)：
1、腔體尺寸：12.5英寸 (318 毫米)；
2、Wafer&芯片：直徑8英寸（200毫米）的晶圓片或者7x7英寸（175毫米）的方片；
3、非真空托盤：聚丙烯材質(zhì)非真空托盤，可承載2、3英寸及200毫米的晶圓片-并帶有背面清洗功能；
3、轉(zhuǎn)動速度：0-12,000rpm，
5、馬達(dá)旋涂轉(zhuǎn)速：穩(wěn)定性能誤差 < ±1%；
6、工藝時間設(shè)定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度；
7、高精度數(shù)碼控制器：PLC控制，設(shè)置點精度小于0.006%；
8、程序控制：可存儲20個程序段，每個程序段可以設(shè)置51步不同的速度狀態(tài)；
9、分辨率：分辨率小于0.5轉(zhuǎn)/分，可重復(fù)性小于±0.5轉(zhuǎn)/分，美國國家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究院（NIST）認(rèn)證過的，并且無需再校準(zhǔn)！]
10、腔體開關(guān)蓋板：透明ECTFE材質(zhì)圓頂蓋板，便于實時進(jìn)行可視化操作；
11、腔體材質(zhì)說明：用聚丙烯材質(zhì)制成的帶有聯(lián)動傳感觸點的合瓣式艙體；
12、配套分析軟件：SPIN3000操作分析軟件；
13、配套真空泵系統(tǒng)：無油型 220~240伏交流，50/60赫茲；
四、適用工藝（包括但不限于下述濕法制程）
光刻膠顯影（KrF/ArF）
SU8厚膠顯影
顯影后清洗
PostCMP清洗
光罩去膠清洗
光刻膠去除
金屬Lift-off處理
刻蝕微刻蝕處理
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
儀表網(wǎng) 設(shè)計制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
怀远县|
乌审旗|
平遥县|
浏阳市|
北票市|
改则县|
丹巴县|
芒康县|
莱西市|
报价|
澄江县|
上栗县|
特克斯县|
盐山县|
永川市|
景宁|
明溪县|
神木县|
西城区|
安吉县|
平阴县|
呈贡县|
巫溪县|
姚安县|
阿克陶县|
多伦县|
牡丹江市|
隆回县|
衢州市|
鄂托克旗|
左权县|
珲春市|
霍邱县|
佳木斯市|
迁西县|
青川县|
濮阳市|
鹿邑县|
嘉兴市|
肥东县|
松桃|