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行業(yè)產(chǎn)品

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深圳市邁昂科技有限公司


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ME-L 穆勒矩陣橢偏儀

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

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更新時間:2023-08-03 12:06:43瀏覽次數(shù):970次

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經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:347條

所在地區(qū):廣東深圳市

聯(lián)系人:呂先生

產(chǎn)品簡介

ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了頤光科研團(tuán)隊在橢偏技術(shù)多年的投入,其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù),包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等。

詳細(xì)介紹


一、概述


ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了頤光科研團(tuán)隊在橢偏技術(shù)多年的投入,其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù),具備 1  全穆勒矩陣測量技術(shù), 2  雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制技術(shù),3  超級消色差補(bǔ)償器設(shè)計技術(shù),4  納米光柵表征測量技術(shù)   等技術(shù)??蓱?yīng)用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析,代表當(dāng)今橢偏行業(yè)比較高的技術(shù)水平。


■ 雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器(DRC)配置一次測量全部穆勒矩陣16個元素;


■ 配置自動變角器、五維樣件控制平臺等優(yōu)質(zhì)硬件模塊;


■ 軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計,易上手、操作便捷;


■ 豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫,保證*數(shù)據(jù)分析能力



二、產(chǎn)品特點


■ 采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm);



■ 可實現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理,測量信息量更大,測量速度快、數(shù)據(jù)更加精準(zhǔn);



■ 基于雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器配置,可一次測量獲得全穆勒矩陣的16個元素,相對傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面測量信息;



■ 頤光技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi),提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜;



■ 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料;


■ 集成對納米光柵的分析,可同時測量分析納米結(jié)構(gòu)周期、線寬、線高、側(cè)壁角、粗糙度等幾何形貌信息;



三、產(chǎn)品應(yīng)用


■ 半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu):介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜,激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等;


■ 半導(dǎo)體周期性納米結(jié)構(gòu):納米光柵,套刻誤差,T型相變存儲器等;


■ 新材料,新物理現(xiàn)象研究:材料光學(xué)各向異性,電光效應(yīng)、彈光效應(yīng)、聲光效應(yīng)、磁光效應(yīng)、旋光效應(yīng)、Kerr效應(yīng)、Farady效應(yīng)等;


■ 平板顯示:TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等;


■ 光伏太陽能:光伏材料(如Si3N4、Sb2Se3、Sb2S3、CdS等)反射率,消光系數(shù)測量,膜層厚度及表面粗糙度測量等;


■ 功能性涂料:增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學(xué)涂層,以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等;


■ 生物和化學(xué)工程:有機(jī)薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理等;


■ 塊狀材料分析:固體(金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等)或液體(純凈物或混合物)的折射率n和消光系數(shù)k表征,玻璃新品研發(fā)和質(zhì)量控制等。


四、技術(shù)規(guī)格




型號ME-L
應(yīng)用科研級/企業(yè)級
基本功能Psi/Delta、R/T、穆勒矩陣等光譜
分析光譜380-1000nm(支持?jǐn)U展至193-2500nm)
單次測量時間1-8 s
重復(fù)性測量精度0.005nm
精度
(直通測量空氣)
橢偏參數(shù):Ψ= 45±0.05°  Δ= 0±0.1°
穆勒矩陣:對角元素 m=1±0.005
非對角元素 m=0±0.005
折射率重復(fù)性精度0.0005
光斑大小大光斑:2-4mm
微光斑:200μm/100um
超微光斑:≤50um

● 重復(fù)性精度指標(biāo)針對100nmSiO2/Si標(biāo)準(zhǔn)樣件30次重復(fù)性測量;

● 儀器具體技術(shù)參數(shù)需與實際功能模塊、配件有關(guān),表中數(shù)據(jù)僅供參考



五、可選配置



波段選擇

V : 380-1000nm                     VN :380-1650nm

UV :245-1000nm                    UN :210-1650nm

UV+ :210-1000nm                 DN :193-1650nm

DUV :193-1000nm                 UN+ :210- 2500nm


角度選擇

自動 :45-90° 

手動 :45-90°(5°步進(jìn)) 

固定 :65° 


其它選擇 

Mapping選擇 : 4~12英寸(供參考,按需定制)

溫控臺: -193~1000℃(供參考,按需定制)



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