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全譜ICP光譜儀-Plasma 2000

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產品型號Plasma 2000 全譜ICP

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更新時間：2026-07-22 09:14:26瀏覽次數：102次

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產品簡介

全譜ICP光譜儀-Plasma 2000

詳細介紹

鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經驗,數十項ICP檢測標準的起草單位,ICP光譜儀產品標準GB/T 36244-2018起草單位,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,最懂ICP應用的國產ICP光譜儀制造商。央企品牌，上市公司，品質之選！歡迎. ：文經理電話: 手機

儀器特點：

穩(wěn)健高效的全固態(tài)光源

全固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小、效率高，全自動負載匹配，速度快、精度高，能適應各種復雜基體樣品及揮發(fā)性有機溶劑的測試，具有優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

垂直炬管的設計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，精確的位置重現(xiàn)。

實時監(jiān)控儀器運行參數，高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場總線，保障通訊高效可靠。

精密的光學系統(tǒng)

中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，使用超純SiO₂棱鏡，高光路傳輸效率，保證了深紫外區(qū)的元素測量。

優(yōu)化的光學設計，采用非球面光學元件，改善成像質量，提高光譜采集效率。

光室多點充氣技術，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性，開機即可測量。

光室氣路獨立，可充氮氣或氬氣。

包圍式立體控溫系統(tǒng)，保障光學系統(tǒng)長期穩(wěn)定無漂移。

進樣系統(tǒng)

儀器配備系列經過優(yōu)化的進樣系統(tǒng)，可用于有機溶劑、高鹽/復雜基體樣品、含等樣品的測試。

使用一體式炬管，易于維護，轉換快速，使用成本低。

使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，流量連續(xù)可調，保障測試性能長期穩(wěn)定。

4通道12滾輪蠕動泵，泵速連續(xù)可調，確保樣品導入穩(wěn)定性。

檢測器

大面積背照式CCD檢測器, 全譜段響應，高紫外量子化效率，抗飽和溢出

具有極寬的動態(tài)范圍和極快的信號處理速度

一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，獲得更為快速、準確的分析結果

同類產品中靶面尺寸，百萬級像素，單像素面積24μm X 24μm

三級半導體制冷,制冷溫度低于-35℃，具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性

關鍵詞：光譜儀標準發(fā)生器工業(yè)現(xiàn)場總線質量流量控制器

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