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更新時(shí)間：2026-07-23 10:05:05瀏覽次數(shù)：126次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來自 儀表網(wǎng)ZetaProbe采用Colloidal Dynamics, LLC 公司技術(shù)－多頻電聲學(xué)測量技術(shù)測量膠體體系的Zeta電位。對于高達(dá)60％（體積）濃度的樣品，無需進(jìn)行樣品稀釋或前處理即可直接測量。這一特點(diǎn)對鈦白粉、油墨、色漿、CMP研磨漿料等高濃度體系的研究極為關(guān)鍵。
儀 器 簡 介
ZetaProbe采用Colloidal Dynamics, LLC 公司技術(shù)－多頻電聲學(xué)測量技術(shù)測量膠體體系的Zeta電位。對于高達(dá)60％（體積）濃度的樣品，無需進(jìn)行樣品稀釋或前處理即可直接測量。這一特點(diǎn)對鈦白粉、油墨、色漿、CMP研磨漿料等高濃度體系的研究極為關(guān)鍵。
ZetaProbe結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)緊湊，包括內(nèi)置滴定裝置、多功能傳感器及高度人性化軟件。自動(dòng)滴定裝置可快速地判斷等電點(diǎn)，只需按一個(gè)按鈕即可得到分散劑和絮凝劑的控制水平。直觀而易于操作的軟件及牢固的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使得ZetaProbe 電位儀非常適用于科研及工廠的優(yōu)化控制。
應(yīng) 用 領(lǐng) 域
主要應(yīng)用包括： 陶瓷、油漆、油墨、水煤漿、CMP漿料、顏料、天然乳膠、磷光體、水泥、礦物質(zhì)加工、黏土礦物、過濾/脫水、濕磨/研磨、表面涂層控制、均一化控制、催化劑和沸石、研磨劑和拋光復(fù)合物等。
技 術(shù) 參 數(shù)
1.可測量Zeta電位、動(dòng)態(tài)遷移率、電導(dǎo)率、PH、溫度、等電點(diǎn)（IEP)。
2.允許樣品濃度：0.5～60％（體積百分?jǐn)?shù)）
3.樣品體積：20-250ml
4.測量Zeta電位的膠粒粒度范圍：1nm～50μm
5.PH 范圍：0.5～13.5
6.電導(dǎo)率范圍：0～5 S/m
7.測量范圍：不限
8.分析時(shí)間：小于30S；可選時(shí)間延遲
9.滴定裝置：1μl分辨率，雙通道抽吸式泵管。
主 要 特 點(diǎn)
n 多頻電聲測量技術(shù)
n 可直接測量高濃度膠體和乳膠體系
n 判定等電點(diǎn)
n 測量的樣品濃度可達(dá)60％（體積）
n 浸入式探針設(shè)計(jì)，通用性強(qiáng)，無活動(dòng)部件
n 底部軸向攪動(dòng)，混合效率高
n 無需進(jìn)行耗時(shí)且易于出錯(cuò)的樣品處理過程
n 自動(dòng)電位滴定和體積滴定
n 測量時(shí)無須輸入粒徑
n 對于較難測量的樣品，如漿糊、凝膠、水泥等均可測量
n 分析時(shí)間短，以秒計(jì)
n 可以Excel 電子表格形式儲存數(shù)據(jù)，容易使用
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